[发明专利]用来处理高纯度材料的系统和方法无效

专利信息
申请号: 200780027124.7 申请日: 2007-07-17
公开(公告)号: CN101489724A 公开(公告)日: 2009-07-22
发明(设计)人: 大卫·凯迪耶利;托德·格雷夫斯;杨瑞龙 申请(专利权)人: 迅捷公司
主分类号: B24B57/00 分类号: B24B57/00;B24B37/00;H01L21/304
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 过晓东
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用来 处理 纯度 材料 系统 方法
【说明书】:

技术领域

发明的至少一个实施方案通常涉及用来处理材料的系统和方法,更具体地说,涉及用来处理高纯度材料(例如,磨粉浆)的系统和方法。

背景技术

高纯度处理材料是需要的,举例来说,在制药工业、化妆品工业和半导体工业中。在半导体工业中,混合型处理材料通常是使用将原料引进混合子系统的制造系统准备的。为了生产一批对于其倾向性应用可接受的混合型处理材料和保证批间的一致性,精确性是必不可少的。然后,一批通常在下游被进一步处理,例如,在递送给工具之前经历过滤操作或进一步的混合。

在许多应用中,不断地将混合型处理材料供应线给使用点是符合需要的。备用单元通常用来使一个或多个处理元素定期地脱机变得容易,以便于维护。然而,在与这样的转换相关联的处理参数中甚至较小的变动都可能导致高纯度材料的连续递送和/或质量的重大破坏。举例来说,系统内有害的压力降可能是特别关心的。

发明内容

依照一个或多个实施方案,本发明通常涉及用来处理高纯度材料的系统和方法。

依照一个或多个实施方案,本发明涉及处理高纯度材料的方法,该方法包括下列行为:将第一材料的流动引进第一单元操作,监测第一单元操作的操作参数,用增压气体充满第二单元操作,清除来自第二单元操作的增压气体,以及响应记录门限值的第一单元操作的操作参数将第一材料的流动转移到第二单元操作。

依照一个或多个实施方案,本发明进一步涉及用来处理高纯度材料的系统,该系统包括第一材料补给线,与第一材料补给线的下游流体连接第一单元操作,与第一材料补给线下游流体连接的第二单元操作,为检测第一单元操作的操作参数而安排的第一感应器,为检测第二单元操作的操作参数而安排的第二感应器,与第一单元操作和第二单元操作流体连接的增压气体补给线,与第一单元操作和第二单元操作流体连接的出口和与第一感应器、第二感应器和出口通信的控制器。该控制器被配置成产生用来自增压气体补给线的增压气体填充第二单元操作的第一控制信号、响应记录门限值的第一感应器将第一材料的流动从第一单元操作经由第二单元操作转移到出口的第二控制信号和在将增压气体从第二单元操作清除之后将第一材料的流动经由第二单元操作引向工具的第三控制信号。

本发明的其它其他利益、新颖特征和目的在连同附图一起考虑的时候通过下面本发明的详细描述变得显而易见。

附图说明

这些附图不打算依比例绘制。在这些附图中,以各种不同的附图举例说明的每个同一的或几乎同一的组成部分是用相似的数字表现的。为了清楚,并非每个组成部分都被标注在每幅图画中。本发明的非限制性的优选实施方案将参照附图予以描述,其中:

图1-5呈现依照本发明的一个或多个实施方案举例说明其中的系统和各种不同的流体流动形态的示意图;

图6-7呈现依照本发明的一个或多个实施方案举例说明其中的替代系统和各种不同的流体流动形态的示意图。

具体实施方式

这项发明在其应用方面不局限于在下列描述中陈述的或在附图中举例说明的组成部分的安排和构造的细节。本发明能够除了作为样板在此呈现的那些以外以各种不同的方式具体表达和实践或实现。

依照一个或多个实施方案,本发明通常涉及用来处理高纯度材料的一个或多个系统和方法。在此描述的系统和方法可能被用于,举例来说,在各式各样的工业(包括化妆品工业、制药工业和半导体工业)的应用以及对高纯度材料的连续和/或精确供应可能有要求的其它应用中准备材料。

本发明的实施方案通常可以包括将材料的流动纳入单元操作。该单元操作可能包含任何有体积要填充的作业组成部分。单元操作可能能够对该材料起作用,举例来说,借助组合,反应或分离处理。在一些实施方案中,单元操作可能包括过滤器,例如,过滤器组或系统,其中压差多孔过滤器能分级过滤该材料。过滤器和多孔性的选择可能是基于待处理的材料和倾向性应用决定的。其它的单元操作可能包括,举例来说,离子交换床、研磨机械、加热装置或冷却装置。

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