[发明专利]带有管中的加热器的负载锁定室

说明书

技术领域

本发明一般涉及真空处理系统的负载锁定室，更具体来说，本发明涉及经 加热的负载锁定室。

背景技术

薄膜晶体管与光伏装置是两个快速发展的技术领域。由平板技术所制作的 薄膜晶体管(TFT)通常用于有源矩阵显示器，诸如计算机与电视屏幕、手机 屏幕、个人数字助理(PDA)以及数量不断增加的其它装置。平板通常包含两 块玻璃片，一层液晶材料夹在这两块玻璃片之间。至少其中一块玻璃片包含一 层位于此玻璃片上的导电膜，且所述导电膜连接至电源。由电源向导电膜提供 的电能改变了结晶材料的取向，进而产生图案显示。

光伏装置(PV)或太阳能电池是将阳光转化为直流(DC)电能的装置。 光伏装置或太阳能电池通常具有一个或多个形成于面板上的p-n结。每个结包 含半导体材料中的两种不同区域，其中一侧代表p型区域而另一侧为n型区域。 当光伏电池的p-n结暴露在阳光(由来自光子的能量组成)下时，阳光经由光 伏效应而直接转换成电力。通常，高质量的硅基材料可用于产生高效能(即， 每单位面积具有高能量输出)的结装置。在光伏太阳能电池中已广泛使用非晶 硅膜(a-Si)当作硅基面板材料，这是因为在常规低温等离子体增强型化学气 相沉积处理(PECVD)中制造非晶硅膜的成本比较低。

随着市场对平板技术的接受以及需要更有效率的光伏装置以弥补高涨的 能源成本，对于更大面板、提高产率以及降低制造成本的需求已驱动着设备制 造商去开发新的系统以用于容纳用于平板显示器与光伏装置的制造设备的更 大型基板。现今基板的处理设备常用于容纳稍微大于约二平方米的基板。可以 预见在不久的将来会出现可容纳更大型基板尺寸的处理设备。

制造上述大型基板的设备对于制造商而言是庞大的支出。因为传统的系统 需要大而昂贵的硬件。为了弥补此支出，因此非常需要高基板产率。

实现高系统产率的一个重要方面在于，负载锁定室中加热和/或冷却基板。 因为可预见处理系统将来会处理更大尺寸的基板，因此需要一种可均匀且快速 加热与冷却大面积基板的发明。特别是，因大表面积暴露至真空所造成的偏移 对于维持加热器、基板与腔体主体之间的均匀间隔形成挑战。再者，因为用于 加热负载锁定室中的基板的常规电阻式加热器与灯的电连接暴露在真空中，所 以这些连接易受电弧放电(arcing)的影响，进而造成腔体硬件的损害和/或产 生不必要的污染源微粒。就以上来说，需求用于促进均匀温度调节、硬件寿命、 污染控制与高热传送速率的各种进步。

因此，需要一种改良式负载锁定室，这种负载锁定室可快速且均匀地加热 和冷却大面积的基板。

发明内容

本发明的实施例包含经加热的负载锁定室。在一实施例中，经加热的负载 锁定室包含腔体主体，所述腔体主体具有多个灯组件，这些灯组件至少部分地 位于所述腔体主体中。每个灯组件包含用于罩住一灯的传导管件。传导管件延 伸进入腔体主体，并提供可将灯与负载锁定室内部体积隔离开的压力阻障。

在另一实施例中，经加热的负载锁定室包含腔体主体，所述腔体主体具有 至少一个灯组件。每个灯组件包含用于将一灯罩在其中的传导管件。传导管件 的开口端透过腔体主体的侧壁而暴露于大气。传导管件的封闭端延伸进入腔体 主体的内部，且由腔体主体的内部所包围。在腔体主体中所界定的内部体积的 顶部下方，按间隔开的关系支撑着传导管件的封闭端。

在另一实施例中，经加热的负载锁定室包含腔体主体，所述腔体主体至少 具有第一与第二灯组件。每个灯组件包含传导管件，传导管件将一灯罩在其中。 第一灯组件的第一传导管件的开口端延伸通过腔体主体的第一侧壁。第二灯组 件的第二传导管件的开口端延伸通过腔体主体的第二侧壁。传导管件的封闭端 朝向彼此，延伸进入腔体主体的内部。传导管件提供压力阻障，以将灯与负载 锁定室的内部体积隔离开。

在另一实施例中，经加热的负载锁定室包含相对的传导管件，这些传导管 件由被安装在顶部的单个框架固定着。在另一实施例中，经加热的负载锁定室 包含多个相对的传导管件对，这些传导管件由具有腔体长度的长条物(long bar) 固定着。长条物的末端仅连接在腔体侧壁上，因此使管件与腔体顶部的移动去 耦(decoupling)。

附图说明