[发明专利]负性辐射敏感组合物和可成像材料

权利要求书

1.一种辐射敏感组合物，所述辐射敏感组合物包含：

可自由基聚合的组分，

暴露于成像辐射下时能产生足以引发所述可自由基聚合的组分 的聚合的自由基的引发剂组合物，

辐射吸收化合物，和

仅包含下列重复单元的聚合物基料：

-(A)_x-

-(B)_y-

-(C)_z-

其中A代表包含-C(＝O)O-CH₂CH＝CH₂侧基的重复单元，B代表 包含氰基侧基的重复单元，C代表除A和B所代表的那些以外的重 复单元并任选包括包含羧基侧基的重复单元，且该重复单元C衍生自 具有下列结构(C₁)、(C₂)、(C₃)、(C₄)和(C₅)的化合物：

其中R₅和R₆独立地为氢、或取代或未取代的烷基、链烯基、环 烷基、苯基、卤素、氰基、酰基、酰氧基或烷氧基，其中含碳基团含 至多6个碳原子，或者R₅和R₆可一起提供形成环中含至多8个原子 的碳环或杂环所需的原子；R₇为氢或取代或未取代的烷基、芳基、环 烷基、卤素或氰基，其中含碳基团含至多6个碳原子；R₈为氢或含至 多6个碳原子的取代或未取代烷基、N-咔唑、苯基、卤素或氰基；R₉为氢或含至多20个碳原子的取代或未取代烷基、含2-20个碳原子的 链烯基、环中含5-10个碳原子的环烷基或环烯基、苯基或含2-20个 碳原子的烷氧基亚烷基；R₁₀和R₁₁独立地为氢或含至多12个碳原子 的取代或未取代烷基、含2-12个碳原子的链烯基、环中含5个碳原 子的环烷基、环中含5个碳原子的环烯基、苯基或含2-12个碳原子 的烷氧基亚烷基；R₁₂和R₁₃独立地为氢、或含至多7个碳原子的取代 或未取代烷基、含2-6个碳原子的链烯基、苯基、苯基、卤素、氰基、 含至多6个碳原子的酰基、含至多6个碳原子的酰氧基或含至多6个 碳原子的烷氧基；R₁₄为氢或含至多7个碳原子的取代或未取代烷基、 苯基或羟基；

x为1-50％重量，y为30-80％重量，z为20-70％重量。

2.权利要求1的组合物，其中B代表衍生自(甲基)丙烯腈的重复 单元，x为5-50％重量，y为30-60％重量，z为30-60％重量。

3.权利要求1的组合物，其中C代表衍生自一种或多种(甲基) 丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、乙烯基咔唑、苯乙烯和其苯乙烯类衍生 物、N-取代马来酰亚胺、马来酸酐、醋酸乙烯酯、乙烯基酮、乙烯基 吡啶、N-乙烯基吡咯烷酮、1-乙烯基咪唑、(甲基)丙烯酸和乙烯基聚 烷基硅烷的重复单元。

4.权利要求1的组合物，其中所述聚合物基料占总组合物固体 的10-70％重量。

5.权利要求1的组合物，其中所述聚合物基料在25℃下于1克 80％重量的2-丁氧基乙醇/水溶液中的溶解度小于50mg。

6.权利要求1的组合物，其中所述引发剂组合物包含盐。