[发明专利]负性辐射敏感组合物和可成像材料

说明书

发明领域

本发明涉及负性辐射敏感组合物和可成像元件如具有提高的耐 溶剂性和良好的敏感性的负性平版印刷印版前体。本发明也涉及使用 这些可成像元件的方法。

发明背景

辐射敏感组合物常用于可成像材料包括平版印刷印版前体的制 备中。这类组合物通常含辐射敏感组分、可自由基聚合的组分、引发 剂体系和基料(binder)，各个这些组分均已成为研究的焦点以提供物理 性质、成像性能和图像特性方面的各种改进。

印版前体领域中近来的发展涉及可通过激光器或激光二极管成 像、更具体而言可成像和/或在机显影的辐射敏感组合物的使用。由 于激光器可由计算机直接控制，故激光曝光不需要传统的卤化银印刷 胶片作为中间信息载体(或“掩模”)。市售图像照排机(image-setter)中用 到的高性能激光器或激光二极管通常发出波长700nm或更高的辐射， 因此辐射敏感组合物需要对电磁波谱的近红外或红外区敏感。但其他 有用的辐射敏感组合物设计以用紫外或可见辐射成像。

使用辐射敏感组合物制备印版有两种可能的方式。对于负性印 版，辐射敏感组合物中曝光区域将在显影过程中硬化而未曝光区域将 被洗掉。对于正性印版，曝光区域将溶解在显影剂中而未曝光区域将 成为图像。

含反应性聚合物基料的各种负性辐射组合物和可成像元件是本 领域熟知的。这些组合物和元件中的一些见述于例如美国专利 6,569,603(Furukawa)、6,309,792(Hauck等)、6,582,882(Pappas等)、 6,893,797(Munnelly等)和6,787,281(Tao等)、美国专利申请公开 2003/0118939(West等)和EP 1,079,276A1(Lifka等)和EP 1,449,650A1 (Goto)。

美国专利6,899,994(Huang等)描述了包含具有烯丙基官能团的 聚合物基料的负性可成像元件。EP 1,182,033A1(Fujimaki等)也描述 了包含具有不饱和碳-碳基团的聚合物的负性元件。此外，美国专利 4,511,645(Koike等)描述了包含光敏成像层的预敏化印版，其中所述 光敏成像层包含包括羧基和碳-碳不饱和侧基的聚合物基料。

待解决的问题

现有技术的各种辐射敏感组合物可容易地用来制备负性可成像 元件，包括含具有烯丙基官能团的聚合物基料的那些。但仍需要改进 这类材料中成像层的耐化学品(溶剂)性而不引起数字成像速度的任何 损失。这个问题可用具有多个官能团例如烯丙基侧基和氰基侧基的独 特的聚合物基料得到解决，但难以制备这类聚合物而不发生不希望有 的交联(凝胶化)。

发明概述

本发明提供了一种辐射敏感组合物，所述辐射敏感组合物包含：

可自由基聚合的组分，

暴露于成像辐射下时能产生足以引发所述可自由基聚合的组分 的聚合的自由基的引发剂组合物，

辐射吸收化合物，和

由下述结构(I)所代表的聚合物基料：

-(A)_x-(B)_y-(C)_z-

(I)

其中A代表包含-C(＝O)O-CH₂CH＝CH₂侧基的重复单元，B代表 包含氰基侧基的重复单元，C代表除A和B所代表的那些以外的重 复单元并任选包括包含羧基侧基的重复单元，

x为1-50％重量，y为30-80％重量，z为20-70％重量。

本发明也提供了一种可成像元件，所述可成像元件包含其上有可 成像层的基材，所述可成像层包含：

可自由基聚合的组分，

暴露于成像辐射下时能产生足以引发所述可自由基聚合的组分 的聚合的自由基的引发剂组合物，

辐射吸收化合物，和

由上述结构(I)所代表的聚合物基料。

本发明也提供了一种制备已成像元件的方法，所述方法包括：

A)按图像曝光本发明的负性可成像元件以形成曝光和未曝光区 域，和

B)有或没有预热步骤，使所述按图像曝光的元件显影以仅除去 未曝光区域。

此外，本发明涉及一种制备结构(I)所代表的聚合物的方法，所述 方法包括：