[发明专利]微波处理装置

权利要求书

1.一种微波处理装置，是利用微波处理对象物的微波处理装置，其特征在 于，包括：

产生微波的微波发生部；

将所述微波发生部产生的微波向对象物发射的至少第一和第二发射部；

对来自所述第一和第二发射部的反射功率进行检测的检测部；以及

控制所述微波发生部的控制部，

构成为使得所述第一和第二发射部发射的微波的相位差发生变化，

所述控制部改变所述微波发生部产生的微波的频率，同时以第一输出功率 从所述第一和第二发射部向对象物发射微波，根据所述检测部检测出的反射功 率为最小的频率，决定处理对象物用的微波的频率作为处理频率，并以第二输 出功率由所述微波发生部产生所述决定的处理频率的微波，

所述第一输出功率小于所述第二输出功率。

2.一种微波处理装置，是利用微波处理对象物的微波处理装置，其特征在 于，包括：

产生微波的微波发生部；

将所述微波发生部产生的微波向对象物发射的至少第一和第二发射部；

使得所述第一和第二发射部发射的微波的相位差改变的第一变相部；

对来自所述第一和第二发射部的反射功率进行检测的检测部；以及

控制所述微波发生部的控制部，

所述第一和第二发射部配置成使得发射的微波互相干涉，

所述控制部改变所述微波发生部产生的微波的频率，同时以第一输出功率 从所述第一和第二发射部向对象物发射微波，根据所述检测部检测出的反射功 率为最小的频率，决定处理对象物用的微波的频率作为处理频率，并以第二输 出功率由所述微波发生部产生所述决定的处理频率的微波，

所述第一输出功率小于所述第二输出功率。

3.如权利要求1所述的微波处理装置，其特征在于，

所述第一和第二发射部设置成彼此相对。

4.如权利要求1所述的微波处理装置，其特征在于，

所述控制部在对象物的处理前，改变所述微波发生部产生的微波的频率， 同时以第一输出功率从所述第一和第二发射部向对象物发射微波，根据所述检 测部检测出的反射功率为最小的频率，决定处理对象物用的微波的频率作为处 理频率。

5.如权利要求1所述的微波处理装置，其特征在于，

所述控制部在对象物的处理中，改变所述微波发生部产生的微波的频率， 同时以第一输出功率从所述第一和第二发射部向对象物发射微波，根据所述检 测部检测出的反射功率为最小的频率，决定处理对象物用的微波的频率作为处 理频率。

6.如权利要求1所述的微波处理装置，其特征在于，

所述第一发射部沿第一方向发射微波，所述第二发射部沿与第一方向相反 的第二方向发射微波，

所述微波处理装置还包括第三发射部，该第三发射部沿与所述第一方向交 叉的第三方向向对象物发射所述微波发生部产生的微波。

7.如权利要求6所述的微波处理装置，其特征在于，

所述微波发生部包括第一和第二微波发生部，

所述第一和第二发射部向对象物发射由所述第一微波发生部产生的微波，

所述第三发射部向对象物发射由所述第二微波发生部产生的微波。

8.如权利要求1所述的微波处理装置，其特征在于，

所述第一发射部沿第一方向发射微波，所述第二发射部沿与第一方向相反 的第二方向发射微波，

所述微波处理装置还包括：

第三发射部，该第三发射部沿与所述第一方向交叉的第三方向向对象物发 射所述微波发生部产生的微波；以及

第四发射部，该第四发射部沿与所述第三方向相反的第四方向向对象物发 射所述微波发生部产生的微波，

所述第三和第四发射部设置成彼此相对。

9.如权利要求8所述的微波处理装置，其特征在于，还包括使得所述第三 和第四发射部发射的微波的相位差改变的第二变相部。