[发明专利]微波处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及利用微波对对象物进行处理的微波处理装置。 

背景技术

作为利用微波来处理对象物的装置有微波炉。微波炉中，由微波发生装置产生的微波发射到金属制的加热室内部。由此，配置于加热室内部的对象物利用微波进行加热。 

以往，作为微波炉的微波发生装置，采用磁控管。在这种情况下，由磁控管产生的微波通过波导管供给加热室内部。 

这里，当加热室内部的微波的电磁波分布不均匀时，就无法均匀加热对象物。因此，提出了将磁控管产生的微波通过第一和第二波导管来供给加热室内部的微波炉(参照专利文献1)。 

专利文献1：日本专利特开2004-47322号公报 

发明内容

将磁控管产生的微波供给加热室内部用的波导管，是由中空的金属管形成。因而，专利文献1的微波炉中，需要多个形成第一和第二波导管的金属管。从而使得微波炉大型化。 

另外，专利文献1中记载了将磁控管产生的微波、从设置成能够旋转的多个发射天线发射的要点。在这种情况下，为了确保各发射天线的旋转空间，微波炉也会大型化。 

本发明的目的在于提供一种以所希望的电磁波分布向对象物供给微波、并且实现充分小型化的微波处理装置。 

(1)按照本发明的一个方面的微波处理装置，是利用微波对对象物进行处理的微波处理装置，包括：产生微波的微波发生部；以及将微波发生部产生的微波向对象物发射的至少第一和第二发射部，构成为使得第一和第二发射部 发射的微波的相位差发生变化。 

该微波处理装置中，由微波发生部产生的微波从第一和第二发射部向对象物发射。由此，从第一发射部发射的微波与从第二发射部发射的微波在对象物周边发生干涉。 

这里，当改变从第一和第二发射部发射的微波的相位差时，从第一和第二发射部发射的微波的干涉状态就发生变化。从而，对象物周边的电磁波分布发生变化。因而，能够以所希望的电磁波分布向对象物供给微波。其结果，能够对对象物进行均匀处理，还能对对象物所希望的部分进行集中处理。 

在这种情况下，由于不需要用于移动对象物以及第一和第二发射部的机构和空间，因此能够实现微波处理装置的充分小型化和低成本化。 

(2)按照本发明的另一个方面的微波处理装置，是利用微波对对象物进行处理的微波处理装置，包括：产生微波的微波发生部；将微波发生部产生的微波向对象物发射的至少第一和第二发射部；以及使得第一和第二发射部发射的微波的相位差改变的第一变相部，将第一和第二发射部配置成使得发射的微波互相干涉。 

该微波处理装置中，由微波发生部产生的微波从第一和第二发射部向对象物发射。 

第一和第二发射部配置成使得发射的微波互相干涉。由此，从第一发射部发射的微波与从第二发射部发射的微波发生干涉。 

第一变相部使第一和第二发射部发射的微波的相位差发生变化。从而，第一和第二发射部发射的微波的干涉状态发生变化。由此，对象物周边的电磁波分布发生变化。因而，能够以所希望的电磁波分布向对象物供给微波。其结果，能够对对象物进行均匀处理，或者能够对对象物所希望的部分进行集中处理。 

在这种情况下，由于不需要用于移动对象物以及第一和第二发射部的机构和空间，因此能够实现微波处理装置的充分小型化和低成本化。 

(3)第一和第二发射部也可以设置成彼此相对。 

在这种情况下，通过将对象物配置在第一发射部和第二发射部之间，可以确实地从第一和第二发射部向对象物发射微波。另外，由于第一和第二发射部彼此相对，因此，从第一发射部发射的微波和从第二发射部发射的微波确实发生干涉。 

(4)微波处理装置还可以包括：对来自第一和第二发射部的反射功率进 行检测的检测部；以及对微波发生部进行控制的控制部，控制部改变微波发生部产生的微波的频率，同时从第一和第二发射部向对象物发射微波，根据检测部检测出的反射功率为最小或极小的频率，决定处理对象物用的微波的频率作为处理频率，并由微波发生部产生所决定的处理频率的微波。 

在这种情况下，改变微波发生部产生的微波的频率，同时从第一和第二发射部向对象物发射微波。此时，根据检测部检测出的、来自第一和第二发射部的反射功率为最小或极小的频率，决定处理对象物用的微波的频率作为处理频率。由微波发生部产生所决定的处理频率的微波。