[发明专利]用于制造丝网印刷模版的曝光装置无效

专利信息
申请号: 200780031537.2 申请日: 2007-08-23
公开(公告)号: CN101506738A 公开(公告)日: 2009-08-12
发明(设计)人: 彼得·贝尔纳 申请(专利权)人: XPOSE控股有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/12
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;李 慧
地址: 瑞士鲁*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要:
搜索关键词: 用于 制造 丝网 印刷 模版 曝光 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种用于制造丝网印刷模版的曝光装置。

本发明特别涉及一种用于制造丝网印刷模版的曝光装置,该曝光装置具有:用于丝网印刷模版的支架;曝光系统,该曝光系统具有至少一个产生光线的光源和在曝光头中的镜组(或者称为光学系统);此外还具有输出数字信号的信号源,该信号源与该曝光系统以这样一种方式连接,即整个丝网印刷模版可以对应于这些信号曝光,以及其中曝光头相对于丝网印刷模版是可运动的。因此它涉及一种用于执行所谓的CtS(Computer-to-Screen丝印计算机直接制版)方法的装置,即涉及这样一种装置,在该装置中需要传输到打印原样(丝网印刷模版)上的信息由计算机的数字信号来控制并且通过光学的曝光系统来提供。

背景技术

由EP-0 953 877已知了一种用于制造丝印模型的方法以及用于此的一种曝光装置,其具有上述特征。在该装置中,曝光系统具有微机械结构的反射光学系统(Speigelsystem),该反射光学系统具有多个至少是部分可运动的微型反射镜。这种微型机械结构的反射光学系统也已知作为所谓的DMDs(数字微镜装置),并可在市场上购买到。在本应用中,微机械结构的反射光学系统用于偏转和调制光线,以使得可运动的微型反射镜的位置可以取决于计算机的信号这样来改变,即使光线的分别被反射的部分或者是进入光输出或者是不进入。在这里,光输出当然意味着偏转至丝印模型或者说丝网印刷模版的光。在此使用持续光,例如无电极的、微波激励的紫外线辐射器来作为光源。此外在该装置中,带有丝印模型的支架和曝光系统相对于彼此也是可运动的。

尽管当今广泛地使用DMD-集成块(例如用于投影机),然而根据EP-0 953 877的该装置具有一些重大缺陷。因为在DMD中涉及机械性运动的反射光学系统,所以鉴于在需要调制的光线中需要非常快速地进行交替当然就存在一定的界限。常用的DMD具有大约为20kHz的临界频率,这自然最终大大限制了丝网印刷模版的“成像速度”。根据制造厂商(德国CST公司)对于相关装置的说明,最大成像速度总计达到了在65lpi(每英寸行数)时大约500sq.ft/hr(每小时的平方英尺数)的范围(然而只是在“快速的”感光乳剂类型和在很小的模版厚度的情况下)。可达到的成像速度当然也由需要消耗的射线能量来确定(根据需要成像的模版材料/感光乳剂材料而部分地需要非常不同的射线能量)。在这里,也规定了应用DMD的界限,因为通过应用反射镜始终产生相对高的损失(光线的“被反射离开”的部分表现为相对较高的热损失,该热损失必须被排出)。最终必须使用以很高功率工作的、连续的辐射源来作为光源,这另一方面是昂贵的并且本质上也再次与相对较高的功率损失联系在一起(因为仅仅有一部分所输送的能量完全转化为可使用的辐射)。因此,再次根据制造厂商的说明,使用功率通常为600-1200Watt的UV光源,就该光源来说其又需要特殊的冷却设备。

发明内容

本发明的目的在于,提出一种改进的、用于制造丝网印刷模版的曝光装置。

该目的通过一种用于制造丝网印刷模版的曝光装置来实现,该曝光装置具有:用于丝网印刷模版的支架;曝光系统,曝光系统具有至少一个产生光线的光源和在曝光头中的镜组;此外还具有输出数字信号的信号源,信号源与曝光系统以这样一种方式连接,即整个丝网印刷模版可以对应于这些信号曝光,其中曝光头相对于丝网印刷模版是可运动的。所述光源具有数量为n的、在300-450nm波长范围中工作的同类型的激光二极管,所述激光二极管可由所述信号源的这些信号控制,所述激光二极管的光信号通过数量同样为n的光导纤维引导至在所述曝光头中的光栅板,以及所述光栅板的光输出被导向至在所述波长范围方面适合于或者是能适合于所述激光二极管的、在所述曝光头中的聚焦镜组,其中所述光导纤维在连接到所述激光二极管的接口处和/或连接到所述光栅板的接口处设计为可插入的。

根据本发明提出了:使用数量为n的、在300-450nm波长范围中工作的、同类型的激光二极管作为光源,该激光二极管可由信号源(计算机)的信号控制,激光二极管的光信号通过数量同样为n的光导纤维引导至在曝光头中的光栅板,以及该光栅板的光输出被导向至在波长范围方面适合于(angepasst)激光二极管的、在曝光头中的聚焦镜组。

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