[发明专利]制备涂覆有氧化锌的制品的低温方法

权利要求书

1.通过大气压化学气相沉积法制备涂覆有低电阻率氧化锌的透明 制品的方法，其包括：

提供具有待在其上施加涂层的表面的透明基材，所述基材表面的温 度为400℃或更低；以及

将包含含锌化合物和一种或多种含氧化合物的前体混合物引导到 待在其上沉积所述涂层的所述表面，在所述前体混合物和所述基材的所 述表面接触之前所述含锌化合物和氧源已经混合在一起小于500毫秒的 时间，使得氧化锌涂层以至少5nm/秒的沉积速率于大气压下在所述表面 上形成。

2.根据权利要求1制备涂覆有低电阻率氧化锌的透明制品的方法， 其中：

将含锌化合物、一种或多种含氧化合物以及一种或多种含13族元 素的化合物引导到待在其上沉积所述涂层的所述表面，所述含锌化合 物、含氧化合物以及含13族元素的化合物混合足够短的时间，使得掺 杂氧化锌涂层以至少5nm/秒的沉积速率在所述表面上形成。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述含13族元素的化合物包 括含铝化合物。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述含铝化合物包括由式 R¹⁵_(3-n)AlR¹⁶_nL_z表示的铝化合物，其中R¹⁵为烷基或芳基或卤化物或醇盐 基团，R¹⁶为H、烷基、芳基、卤化物或式R¹⁷C(O)CR¹⁸C(O)R¹⁹表示的 二酮化物基团，其中R^17-19可相同或不同，并且为H、烷基或芳基，n＝0-3， 其中L为含氧供体配体，以及其中z＝0-2。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述含铝化合物包括乙酰丙酮 二乙基铝。

6.根据权利要求4所述的方法，其中所述含铝化合物包括氯化二乙 基铝。

7.根据权利要求2所述的方法，其中所述含13族元素的化合物包 括含镓化合物。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述含镓化合物包括由式 R¹⁵_(3-n)GaR¹⁶_nL_z表示的镓化合物，其中R¹⁵为烷基或芳基或卤化物或醇盐 基团，R¹⁶为H、烷基、芳基、卤化物或式R¹⁷C(O)CR¹⁸C(O)R¹⁹表示的 二酮化物基团，其中R^17-19可相同或不同，并且为H、烷基或芳基，n＝0-3， 其中L为含氧供体配体，以及其中z＝0-2。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述含镓化合物包括乙酰丙酮 二甲基镓。

10.根据权利要求8所述的的方法，其中所述含镓化合物包括六氟 乙酰丙酮二甲基镓。

11.根据权利要求1制备涂覆有低电阻率氧化锌的透明制品的方 法，其中：

将含锌化合物、含氧化合物、含13族元素的化合物以及含氟化合 物引导到待在其上沉积所述涂层的所述表面，所述含锌化合物、氧源以 及含13族元素化合物和含氟化合物混合在一起足够短的时间，使得掺 杂氧化锌涂层以至少5nm/秒的沉积速率在所述表面上形成。