[发明专利]用于制备保护膜的低温快速固化组合物、由该组合物制备的保护膜和包括该保护膜的基板

权利要求书

1.一种用于制备保护膜的组合物，其包含：

a)有机硅氧烷聚合物，其由一种或多种硅烷化合物聚合而成，该硅烷 化合物选自：选自由下面通式1表示的化合物中的一种或多种单体；由该 单体制备的二聚体；和由该单体、二聚体或其混合物制备的低聚物；

b)光产碱剂；和

c)有机溶剂，

[通式1]

SiR¹_pR²_4-p

其中，

R¹各自独立为氢；氟；芳基；乙烯基；烯丙基；或被氟取代或者未取 代的具有1～20个碳原子的直链或者支链烷基，

R²各自独立为可水解的官能团，其包括具有1～4个碳原子的直链或者 支链烷氧基、乙酰氧基或氯，

p为0～2的整数。

2.根据权利要求1所述的用于制备保护膜的组合物，其中，所述用于 制备保护膜的组合物为制备用于塑料基板的保护膜的组合物。

3.根据权利要求1所述的用于制备保护膜的组合物，其中，所述有机 溶剂c)为选自基于脂肪烃的溶剂、基于芳香烃的溶剂、基于醇的溶剂、基 于酮的溶剂、基于醚的溶剂、基于酯的溶剂和基于酰胺的溶剂中的一种或 者多种溶剂。

4.根据权利要求1所述的用于制备保护膜的组合物，其中，所述光产 碱剂b)为选自2-硝基苯甲基氨基甲酸酯、砜酰胺、邻酰肟和硝苯地平中的 一种或者多种化合物。

5.根据权利要求1所述的用于制备保护膜的组合物，其中，所述光产 碱剂b)为选自下组化合物中的一种或者多种化合物：硝基苯甲基环己基氨 基甲酸酯、3，5-二甲氧基苯甲基环己基氨基甲酸酯、3-硝基苯基环己基氨基 甲酸酯、苯甲基环己基氨基甲酸酯、[[(2-硝基苯甲基)氧]羰基]辛胺、[[(2- 硝基苯甲基)氧]羰基]环己胺、[[(2-硝基苯甲基)氧]羰基]哌嗪、二[[(2-硝基苯 甲基)氧]羰基]-1，6-己二胺、[[(2，6-二硝基苯甲基)氧]羰基]环己胺、二[[(2，6- 二硝基苯甲基)氧]羰基]-1，6-己二胺、N-[[(2-硝基苯基)-1-甲基甲氧基]羰基] 环己胺、N-[[(2-硝基苯基)-1-甲基甲氧基]羰基]-十八胺、二[[(α-甲基-2-硝基 苯甲基)氧]羰基]-1，6-己二胺、N-[[(2，6-二硝基苯基)-1-甲基甲氧基]羰基]环己 胺、N-[[(2-硝基苯基)-1-(2′-硝基苯基)甲氧基]羰基]环己胺、N-[[(2，6-二硝基 苯基)-1-(2′，6′-二硝基苯基)甲氧基]羰基]环己胺、N-环己基-4-甲基苯基磺酰 胺、N-环己基-2-萘基磺酰胺、邻苯基乙酰基-2-乙酰萘肟和N-甲基硝苯地平。

6.根据权利要求1所述的用于制备保护膜的组合物，其中，基于有机 硅氧烷的总固体重量，所述光产碱剂b)的含量为0.1～15重量％。

7.根据权利要求1所述的用于制备保护膜的组合物，其中，基于有机 硅氧烷的总固体重量，所述光产碱剂b)的含量为1～10重量％。

8.根据权利要求1所述的用于制备保护膜的组合物，其中，所述用于 制备保护膜的组合物含有选自胶体二氧化硅、低折射率粒子、高折射率粒 子、抗静电剂、硅烷偶合剂、着色剂和流平剂中的一种或者多种化合物。

9.一种制备保护膜的方法，其包含如下步骤：

a)将根据权利要求1～8中任一项所述的用于制备保护膜的组合物涂布 在基板上；和

b)对该组合物进行干燥、曝光和热处理。

10.根据权利要求9所述的制备保护膜的方法，其中，步骤a)中的基 板选自塑料基板、玻璃基板、金属基板、硅片和SiO₂片中。

11.根据权利要求9所述的制备保护膜的方法，其中，步骤b)中的干 燥在0～100℃下进行。