[发明专利]薄光条和制造方法无效

专利信息
申请号: 200780037447.4 申请日: 2007-09-28
公开(公告)号: CN101523255A 公开(公告)日: 2009-09-02
发明(设计)人: 马雷克·米恩克;徐刚;鲁塞尔·韦恩·格鲁尔克;约恩·比塔 申请(专利权)人: 高通MEMS科技公司
主分类号: G02B6/00 分类号: G02B6/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 刘国伟
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 薄光条 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种显示器装置,其包括:

光条,其具有两个或两个以上不同层且沿着其长度导向光;

转向微结构,其安置在所述光条的顶部和底部中的至少一者上,所述转向微结构经配置以引导所述光离开所述光条的一侧;

光导面板,其相对于所述光条的所述侧而安置以使得来自所述光条的所述光耦合到所述光导面板,所述光导面板经配置以引导耦合在其中的所述光离开所述光导面板;以及

多个光调制器,其相对于所述光导面板而安置以接收被引导离开所述光导面板的所述光。

2.根据权利要求1所述的装置,其中所述转向微结构包括压印在膜层上的多个刻面特征。

3.根据权利要求2所述的装置,其中所述膜层是所述两个或两个以上不同层中的一者。

4.根据权利要求2所述的装置,其中所述膜层具有在约25到350微米范围内的厚度。

5.根据权利要求2所述的装置,其中所述膜层具有在约50到60微米范围内的厚度。

6.根据权利要求1所述的装置,其进一步包括安置在所述光条的输入端以将光注射其中的光源。

7.根据权利要求6所述的装置,其中所述光源包括发光二极管。

8.根据权利要求1所述的装置,其中所述转向微结构安置在所述光条的所述顶部和所述底部两者上。

9.根据权利要求7所述的装置,其中所述转向微结构包括压印在所述光条的所述顶部上的第一膜层上以及所述光条的所述底部上的第二膜层上的多个刻面特征。

10.根据权利要求8所述的装置,其中所述两个或两个以上不同层包括所述第一膜层和所述第二膜层。

11.根据权利要求1所述的装置,其中所述转向微结构包括所述光条中的多个刻面特征。

12.根据权利要求1所述的装置,其中所述转向微结构包括多个细长凹槽。

13.根据权利要求1所述的装置,其中所述转向微结构包括具有大致三角形横截面的多个三角形凹槽。

14.根据权利要求6所述的装置,其中所述转向微结构的密度随着距所述光条的所述输入端的距离而增加。

15.根据权利要求6所述的装置,其中所述转向微结构的深度随着距所述光条的所述输入端的距离而增加。

16.根据权利要求6所述的装置,其中所述转向微结构的间隔或角度随着距所述光条的所述输入端的距离而变化。

17.根据权利要求1所述的装置,其中所述转向微结构安置在所述光条上的膜中。

18.根据权利要求1所述的装置,其中所述光条包括安置在载体上的膜,所述膜具有安置在其中的所述转向微结构。

19.根据权利要求18所述的装置,其中所述载体包括光学元件。

20.根据权利要求19所述的装置,其中所述光学元件包括偏振器或滤光器。

21.根据权利要求1所述的装置,其中所述光条包括安置在载体的相对侧上的第一和第二膜,所述光转向微结构安置在所述第一和第二膜中。

22.根据权利要求1所述的装置,其中所述光导面板包含使耦合到所述光导面板中的所述光转向并引导所述光离开所述光导面板的转向特征。

23.根据权利要求22所述的装置,其中所述转向特征包括安置在膜中的凹槽。

24.根据权利要求22所述的装置,其中所述光导面板经配置以引导所述光离开所述光导面板的底部表面而到达所述多个光调制器上。

25.根据权利要求1所述的装置,其中所述多个光调制器包括反射性光调制器阵列。

26.根据权利要求1所述的装置,其中所述多个光调制器包括多个MEMS。

27.根据权利要求1所述的装置,其中所述多个光调制器包括多个干涉式调制器。

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