[发明专利]低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法及防反射材料

说明书

技术领域

本发明涉及含有聚硅氧烷的低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法、 由该涂布液形成的低折射率被膜、以及具有该被膜的防反射材料。

背景技术

以往，已知如果在基材的表面形成具有比该基材的折射率小的低折射 率的被膜，则从该被膜的表面反射的光的反射率下降。于是，上述显示出 低光反射率的低折射率被膜被作为防光反射膜使用，被用于各种基材表面。

例如，专利文献1揭示了一种方法，该方法是将使作为Mg源的镁盐或 烷氧基镁化合物等与作为F源的氟化物盐反应生成的MgF₂微粒的醇分散液 或为了提高膜强度而向其中添加四烷氧基硅烷等而成的液体作为涂布液， 将其涂布于玻璃基材上，以100～500℃的温度进行热处理，从而在基材上 形成显示出低折射率的防反射膜。

此外，专利文献2揭示了一种方法，该方法是将平均分子量不同的2 种以上的四烷氧基硅烷等的水解缩聚物与醇等溶剂混合，制成涂布液，在 由该涂布液形成被膜时，通过对上述混合时的混合比例、相对湿度加以控 制等方法来制作被膜。被膜可通过在250℃以上的温度下加热得到，显示出 1.21～1.40的折射率，具有直径50～200nm的微坑或凹凸，具有60～160nm 的厚度。被膜形成于玻璃基板上，从而制成低反射玻璃。

此外，专利文献3揭示了一种低反射率玻璃，该低反射率玻璃由玻璃、 下层膜和上层膜构成，所述下层膜形成于所述玻璃的表面，具有高折射率， 所述上层膜形成于所述下层膜的表面，具有低折射率。上层膜的形成通过 如下方法进行：使CF₃(CF₂)₂C₂H₄Si(OCH₃)₃等具有多氟碳链的含氟有机硅化合 物与相对于该含氟有机硅化合物为5～90质量％的Si(OCH₃)₄等硅烷偶联剂 在醇溶剂中、在乙酸等催化剂的存在下于室温下水解，然后过滤，将由此 调制成的共缩合物的液体涂布于上述下层膜上，以120～250℃的温度加热。

此外，专利文献4揭示了一种涂布液，该涂布液是通过在不存在水的 条件下以40～180℃的温度对以特定比率含有以Si(OR)₄表示的硅化合物、 以CF₃(CF₂)_nCH₂CH₂Si(OR¹)₃表示的硅化合物、以R²CH₂OH表示的醇和草酸的反 应混合物加热而生成的聚硅氧烷溶液。通过将该涂布液涂布于基材表面， 在80～450℃的温度下使其热固化，可形成具有1.28～1.38的折射率和 90～115度的水接触角的被膜。

专利文献1：日本专利特开平05-105424号公报

专利文献2：日本专利特开平06-157076号公报

专利文献3：日本专利特开昭61-010043号公报

专利文献4：日本专利特开平09-208898号公报

发明的揭示

对于上述在各种显示装置等中使用的防反射膜，近年来，在液晶和等 离子体等显示装置的大型化、轻量化和薄型化的过程中，为了轻量化和高 透明化等目的，其使用的防反射基材、特别是防反射膜存在膜厚变薄的倾 向，出现因热而受到的损伤增大的问题。因此，比以前更迫切地希望开发 出能通过膜不会受到损伤的程度的低温处理得到防反射基材的在较低的温 度下固化的热固化型被膜形成用涂布液。然而，上述已有的低折射率被膜 的固化温度不够低，希望进一步降低固化温度。

另外，上述在各种显示装置等中使用的防反射膜无法通过在带硬质涂 层的三乙酰基纤维素膜或带硬质涂层的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜等膜基材 的表面形成折射率比该基材低的被膜而得到。此时，根据硬质涂层的材质 和亲水化处理等表面处理的有无，要形成低折射率被膜的基材膜的表面的 水接触角具有多种大小，但一直以来都难以在水接触角较大的基材膜上形 成耐擦伤性好的高硬度的低折射率被膜。