[发明专利]杂环化合物和杂环聚合物

权利要求书

1、一种杂环化合物，其特征在于，由下式(I)表示，

式中，X和Y不相同，且为选自氯原子、溴原子和碘原子中的卤原子、CF₃SO₃^-、CH₃SO₃^-、C₆H₅SO₃^-或CH₃C₆H₄SO₃^-，R¹是可以被取代的碳原子数为2以上的1价脂肪烃基，A¹和A²中的一个是-S-、-O-、-Se-或-Te-，另一个是-N＝、-P＝或-Si(R²)＝，其中，R²是氢原子、可以被取代的1价烃基、卤原子、氨基或羰基，用实线和虚线表示的两个结合中的一个结合是单键，另一个结合是双键。

2、根据权利要求1所述的杂环化合物，其中在所述通式(I)中，X和Y是氯原子、溴原子或碘原子，而且A¹和A²中的一个是-S-或-O-，另一个是-N＝。

3、所述杂环化合物的制造方法，其特征在于，包括将下述式(III)所示的化合物进行卤化的工序，

式中，X、R¹、A¹、A²及实线和虚线表示与上述相同的含义。

4、根据权利要求3所述的制造方法，该方法包括：从下述通式(II)所示的胺化合物脱去氨基，并与卤原子加成，从而合成所述通式(III)所示的化合物的工序，

式中，R¹、A¹、A²及2条实线和虚线的平行线表示与上述相同的含义。

5、一种高分子，该高分子具有下述(IV)所示的重复单元，

式中，R³表示取代基，A¹和A²中的一个表示-S-、-O-、-Se-或-Te-，另一个表示-N＝、-P＝或-Si(R²)＝，R²表示氢原子或者可以被取代的烃基，用实线和虚线表示的两个结合中的一个结合是单键，另一个结合是双键，其中，

(A)所述高分子具有连续结合7个以上所述重复单元的结构(要素A)，

(B)相对于所述高分子中含有的多个所述重复单元之间的直接结合的总个数，形成头-尾HT结合的所述直接结合的总个数的比例为60％以上(要素B)。

6、权利要求5所述的高分子，其中A¹和A²中的一个表示-S-或-O-，另一个表示-N＝。

7、根据权利要求5或6所述的高分子，该高分子进一步具有与所述式(IV)所示的重复单元不同的重复单元，相对于该高分子中含有的全部重复单元的总个数，所述式(IV)所示的重复单元的总个数的比例为80％以上且小于100％。

8、根据权利要求5所述的高分子的制造方法，该方法包括使下式(V)所示的杂环化合物进行缩合反应的步骤，

式中，X、Y、R³、A¹、A²及实线和虚线表示与上述相同的含义。