[发明专利]辐射及探测系统

权利要求书

1、一种辐射及探测系统，其包括

-辐射单元(2)，其具有第一发射区域(15)和第二发射区域(16)，以便在第一时间间隔利用所述第一发射区域(15)的辐射并且在第二时间间隔利用所述第二发射区域(16)的辐射来交替地照射探测单元(6)，

-探测单元(6)，其用于探测取决于所述辐射的值，所述探测单元(6)适于在所述第一时间间隔探测第一探测值并且在所述第二时间间隔探测第二探测值，

-校准单元(18)

其用于相对于所述第二发射区域(16)的所述辐射对所述第一探测值的影响来校准所述辐射及探测系统，所述校准单元(18)适于确定取决于所述第二发射区域(16)的所述辐射对所述第一探测值的影响的校准值，以校正所述第一探测值，并且

其用于相对于所述第一发射区域(15)的所述辐射对所述第二探测值的影响来校准所述辐射及探测系统，所述校准单元(18)适于确定取决于所述第一发射区域(15)的所述辐射对所述第二探测值的影响的校准值，以校正所述第二探测值。

2、如权利要求1所述的辐射及探测系统，

其中，所述校准单元(18)适于使用所述第一和第二探测值中的至少一个来确定用于校正所述第一探测值的所述校准值，并且

其中，所述校准单元(18)适于使用所述第一和第二探测值中的至少一个来确定用于校正所述第二探测值的所述校准值。

3、如权利要求1所述的辐射及探测系统，其中，所述辐射及探测系统包括用于防止所述探测单元(6)探测到所述第一和第二发射区域(15，16)中的一个的辐射的防止单元。

4、如权利要求1所述的辐射及探测系统，其中，所述防止单元为用于阻挡辐射的阻挡元件(17)。

5、如权利要求3所述的辐射及探测系统，

其中，为了确定用于校正所述第一探测值的校准值，

-所述防止单元适于防止所述探测单元(6)探测到所述第一发射区域(15)的辐射，

-所述探测单元(6)适于探测第一和第二探测值，并且

-所述校准单元(18)适于通过使用相继的第一和第二探测值的比值来确定用于校正所述第一探测值的校准值，并且

其中，为了确定用于校正所述第二探测值的校准值，

-所述防止单元适于防止所述探测单元(6)探测到所述第二发射区域(16)的辐射，

-所述探测单元(6)适于探测第一和第二探测值，并且

-所述校准单元(18)适于通过使用相继的第一和第二探测值的比值来确定用于校正所述第二探测值的校准值。

6、如权利要求1所述的辐射及探测系统，其中，所述校准单元(18)适于确定取决于所述探测单元(6)的余辉值的校准值。

7、如权利要求1所述的辐射及探测系统，其中，所述校准单元(18)适于确定取决于发射区域的残留辐射的校准值。

8、如权利要求1所述的辐射及探测系统，其中，所述辐射及探测系统包括适于使用所述校准值来校正所述第一和第二探测值的校正单元(20)。

9、如权利要求8所述的辐射及探测系统，其中，所述校正单元(20)适于使用以下步骤来校正所述第一和第二探测值：

-将所述第一和第二探测值建模为矩阵等式，其中，所述第一和第二探测值通过取决于所述校准值的矩阵与经校正的第一和第二探测值相联系，

-通过对所述矩阵等式求逆来重新计算所述经校正的第一和第二探测值。

10、如权利要求8所述的辐射及探测系统，其中，所述辐射及探测系统包括重建单元(21)，其用于使用所述经校正的第一和第二探测值来对位于所述辐射单元(2)与所述探测单元(6)之间的感兴趣区域的图像进行重建。

11、如要求1所述的辐射及探测系统，

其中，所述辐射及探测系统是计算机断层摄影系统，并且

其中，所述辐射单元(2)是X射线立体管(2)。