[发明专利]辐射及探测系统

说明书

技术领域

本发明涉及辐射及探测系统，以及辐射及探测方法。

背景技术

辐射及探测系统是众所周知的，其包括辐射单元和探测单元，其中，辐射单元具有第一发射区域和第二发射区域，以便在第一时间间隔利用第一发射区域的辐射并且在第二时间间隔利用第二发射区域的辐射来交替地照射探测单元。这种辐射及探测系统例如为计算机断层摄影系统(CT系统)，其包括具有两个焦斑的X射线立体(stereo)管，其中，从所述两个焦斑发射的辐射交替地照射感兴趣区域。探测单元探测横穿了感兴趣区域的两个焦斑的辐射。根据所述辐射，探测单元生成探测值，使用所生成的探测值重建感兴趣区域的图像。包括上述辐射单元的辐射及探测系统具有的缺点为由于使用第一和第二发射区域而造成所述探测值是错误的，从而得到包括伪影的重建图像。

发明内容

本发明的目的在于提供一种辐射及探测系统，其包括辐射单元，所述辐射单元具有第一发射区域和第二发射区域以便在第一时间间隔利用第一发射区域的辐射并且在第二时间间隔利用第二发射区域的辐射来交替地照射探测单元，其中，降低了探测值的错误程度。

在本发明的第一方面，提出了一种辐射及探测系统，其包括：

-辐射单元，其具有第一发射区域和第二发射区域以便在第一时间间隔利用第一发射区域的辐射并且在第二时间间隔利用第二发射区域的辐射来交替地照射探测单元，

-探测单元，其用于探测取决于辐射的值，所述探测单元适于在第一时间间隔探测第一探测值并且在第二时间间隔探测第二探测值。

-校准单元

其用于相对于第二发射区域的辐射对第一探测值的影响来校准辐射及探测系统而言，校准单元适于确定取决于第二发射区域的辐射对第一探测值的影响的校准值，以校正第一探测值，并且

其用于相对于第一发射区域的辐射对第二探测值的影响来校准辐射及探测系统而言，校准单元适于确定取决于第一发射区域的辐射对第二探测值的影响的校准值，以校正第二探测值。

本发明所基于的思想为，在上述的现有技术中，第一探测值的错误由第二发射区域的辐射对第一探测值的影响引起。例如，由第二发射区域的辐射引起的探测单元的余辉影响了第一探测信号。另外，例如，由于在第一和第二发射区域之间的切换时间的物理限制，第二发射区域可能也在第一时间间隔发射一些残留辐射。同样，第二探测值的错误由第一发射区域的辐射的影响引起。用于相对于这些影响来校正第一和第二探测值的校准减小了第一和第二探测值的错误程度。

优选地，校准单元适于使用第一和第二探测值中的至少一个来确定用于校正第一探测值的校准值，并且所述校准单元适于使用第一和第二探测值中的至少一个来确定用于校正第二探测值的校准值。由于使用辐射及探测系统本身的探测值而不是(例如)在实验室中测量的探测值来确定校准值，因此可以以高准确度来确定校准值。

进一步优选地，辐射及探测系统包括防止单元，其用于防止探测单元探测到第一和第二发射区域中的一个的辐射。这允许使用第一和第二探测值中的至少一个来确定用于校正第一探测值的校准值，在防止第一发射区域的辐射被探测单元探测到的同时，已经获取了所述第一和第二探测值。另外，这允许使用第一和第二探测值中的至少一个来确定用于校正第二探测值的校准值，在防止第二发射区域的辐射被探测单元探测到的同时，已经获取了所述第一和第二探测值。因此，这允许确定第一和第二发射区域中的一个的辐射的影响，其中，这一确定不受到第一和第二发射区域中的另一个的辐射的影响。这改善了校准值的质量，并且因此改善了经校正的探测值的质量以及通过使用这些经校正的探测值可能重建的图像的质量。

防止单元优选地为用于阻挡辐射的阻挡元件。例如，这一阻挡元件是准直器或者(具体而言准直器的)金属板。这允许在辐射单元仍可以交替地从两个发射区域发射辐射的同时防止探测单元探测到第一和第二发射区域中的一个的辐射。因此，在校准期间，可以以与在图像生成模式下相同的模式来操作辐射单元，所述图像生成模式用于在校准了辐射及探测系统之后，即确定了校准值之后，生成用于重建感兴趣区域的图像的探测值。由于在校准模式期间和在图像生成模式期间，辐射单元的操作模式可以是相同的，因此校准值的确定可以基于真实图像生成状况，这改善了校准值的质量，并且因此改善了经校正的探测值的质量以及使用这些经校正的探测值可能重建的图像的质量。例如，如果辐射单元是具有两个焦斑的X射线立体管(其中这两个焦斑的辐射交替地照射感兴趣区域)，则在校准期间，X射线立体管可交替地进行辐射，其中只有一个焦斑的辐射到达探测单元。

进一步优选地，为了确定用于校正第一探测值的校准值，