[发明专利]用于薄膜金属层形成的成核层

权利要求书

1.一种在柔性聚合物支承体上形成导电膜的方法，该 方法包括：

a)在所述柔性聚合物支承体上形成不连续种子层，所 述种子层包括氧化镓、氧化铟、氧化镁、氧化锌、氧化锡或 者含有它们的混合型氧化物或掺杂型氧化物的混合物；以及

b)在所述不连续种子层上沉积可延展的、透射可见光 的金属层，其中所述导电膜可以在面内方向拉伸至少3％， 而没有电连续性损耗并且没有在金属层的表面中形成通过 肉眼在0.25米的距离处检测的可见的不连续性。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括在所述支承体 和所述不连续种子层之间形成有机支承体涂层。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述不连续种子 层包括氧化锌。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述不连续种子 层使用包括氧化锌:氧化铝、氧化铟:氧化锌、氧化铟:氧化锡、 氧化铟:氧化锡:氧化锌、铟:锌、铟:锡、氧化铟镓锌、 Zn_(1-x)Mg_xO:Al或MgIn₂O_(4-x)的溅射靶而形成。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述金属层包括 银。

6.根据权利要求1所述的方法，还包括：

c)在所述金属层上形成第二不连续种子层，所述第二 不连续种子层包括氧化镓、氧化铟、氧化镁、氧化锌、氧化 锡或者含有它们的混合型氧化物或掺杂型氧化物的混合物； 以及

d)在所述第二不连续种子层上沉积第二可延展的、透射 可见光的金属层。

7.根据权利要求6所述的方法，还包括在所述金属层 之间形成聚合物间隔层从而得到阻隔红外线的法布里-珀罗 叠层。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述不连续种子 层的物理厚度大于0并且小于5nm，并且所述金属层的物理 厚度为5至50nm。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述膜的可见光 透射比为至少70％并且片电阻率小于20欧姆每平方。

10.一种导电膜，包括柔性聚合物支承体；在所述支承 体上的不连续种子层，所述种子层包括氧化镓、氧化铟、氧 化镁、氧化锌、氧化锡或者含有它们的混合型氧化物或掺杂 型氧化物的混合物；以及在所述种子层上的可延展的、透射 可见光的金属层，其中所述导电膜可以在面内方向拉伸至少 3％，而没有电连续性损耗并且没有在金属层的表面中形成通 过肉眼在0.25米的距离处检测的可见的不连续性。

11.根据权利要求10所述的膜，还包括在所述支承体 和所述不连续种子层之间的有机支承体涂层。

12.根据权利要求10所述的膜，其中所述不连续种子 层包括氧化锌。

13.根据权利要求12所述的膜，其中所述氧化锌掺杂有 铝或氧化铝。

14.根据权利要求10所述的膜，其中所述不连续种子 层包括氧化铟:氧化锌、氧化铟:氧化锡、氧化铟镓锌、 Zn_(1-x)Mg_xO:Al或MgIn₂O_(4-x)。

15.根据权利要求10所述的膜，还包括在所述金属层 上的第二不连续种子层和在所述第二不连续种子层上的第 二金属层。

16.根据权利要求15所述的膜，其中所述金属层被聚 合物间隔层分开并且提供阻隔红外线的法布里-珀罗叠层。

17.根据权利要求15所述的膜，还包括第三、第四、 第五或第六不连续种子层和在所述第二金属层上的第三、第 四、第五或第六金属层，其中所述金属层被聚合物间隔层分 开并且提供阻隔红外线的法布里-珀罗叠层。

18.根据权利要求10所述的膜，其中所述不连续种子 层的物理厚度大于0并且小于5nm，并且所述金属层的物理 厚度为5至50nm。