[发明专利]工艺、设备和器件

权利要求书

1.一种用于在衬底的目标场上形成交叠图案的工艺，包括步骤：

在所述交叠图案之间提供重叠误差，所提供的重叠误差对应于根据所 述工艺的模型的至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的建议值对所述 工艺的控制；

通过将所述模型与包括所提供的重叠误差和至少一个工艺参数中的 每一个工艺参数的建议值的数据相匹配，为对应于最小重叠误差的所述至 少一个工艺参数中的每一个工艺参数确定值；

形成所述交叠图案，由此根据所述至少一个工艺参数中的每一个工艺 参数的所确定的值控制所述工艺；

其特征在于：

确定局部残余重叠误差，以及通过根据所述至少一个工艺参数中的每 一个工艺参数的第一确定值形成所述交叠图案中的一个图案的第一部分， 并且根据所述至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的第二确定值形成 所述交叠图案中的所述一个图案的第二部分，确定在照射期间将作为动态 校正被应用的内场校正，其中所述第一确定值与所述第二确定值不同。

2.如权利要求1所述的工艺，其中所述交叠图案包括第一图案和第 二图案，并且其中所述交叠图案中的所述一个图案是所述第一图案。

3.如权利要求2所述的工艺，其中提供所述重叠误差的步骤包括基 于与所述交叠图案中的仅一个图案的形成有关的数据估计所述重叠误差。

4.如权利要求3所述的工艺，其中所述交叠图案中的所述仅一个图 案是所述第二图案。

5.如权利要求2所述的工艺，其中提供所述重叠误差的步骤包括测 量根据所述至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的建议值处理的测试 衬底上的重叠误差。

6.如权利要求2到4中任一项所述的工艺，其中所述第二图案比所 述第一图案早被形成在所述衬底上。

7.如权利要求1所述的工艺，其中所述工艺是光刻工艺。

8.如权利要求7所述的工艺，包括步骤：

通过图案形成装置图案化辐射束，和

通过用所述图案化的辐射束照射所述目标场形成所述交叠图案中的 所述一个图案的所述第一部分和所述第二部分。

9.如权利要求8所述的工艺，包括步骤：

使用所述图案形成装置的特征的测量值估计所述重叠误差。

10.如权利要求8或9所述的工艺，包括步骤：

相对于投影系统扫描所述图案形成装置；

在第一时刻中形成所述图案形成装置的第一区域的第一图像，所述图 像形成为狭缝；

在第二时刻中形成所述图案形成装置的第二区域的第二图像，所述图 像形成为狭缝，由此所述第二时刻与所述第一时刻不同，并且所述图案形 成装置的所述第一区域和所述图案形成装置的所述第二区域不同；

相对于所述狭缝扫描所述目标场，由此以所述第一图像照射所述目标 场的所述第一区域并且以所述第二图像照射所述目标场的所述第二区域；

由此分别相对于所述图案形成装置的所述第一区域和所述第二区域 以图像收缩因子收缩所述第一图像和所述第二图像。

11.如权利要求10所述的工艺，其中所述至少一个工艺参数中的每 一个工艺参数包括所述图像收缩因子。

12.如权利要求10所述的工艺，其中所述至少一个工艺参数中的每 一个工艺参数中的一个工艺参数对应所述投影系统的第三级像差。

13.如权利要求10所述的工艺，其中相对于所述投影系统扫描所述 图案形成装置，并且其中根据至少一个包括轨迹和速度的扫描参数相对彼 此扫描所述目标场和所述狭缝，并且其中至少一个工艺参数中的每一个工 艺参数的至少一个对应所述至少一个扫描参数中的一个扫描参数。

14.如权利要求13所述的工艺，其中所述至少一个扫描参数中的一 个扫描参数对应所述目标场相对于所述狭缝的速度，或对应所述图案形成 装置相对于所述投影系统的速度。