[发明专利]可直接光限定的聚合物组合物及其方法

权利要求书

1.一种聚合物，包括由式I表示的第一类型和第二类型的重复单 元：

其中X选自-CH₂-；m是0至5的整数；并且其中对于第一类型重 复单元，R¹、R²、R³和R⁴中之一是含有由式II表示的基团的马来酰亚 胺：

其中A是选自亚甲基、直链或支链C₂至C₆烃基、卤代烃基或全 卤烃基、或取代或未取代的C₅至C₁₂环状或多环烃基、卤代烃基或全 卤烃基的连接基，并且R⁵和R⁶各自独立地选自H、甲基、乙基或正丙 基，并且其中R¹、R²、R³和R⁴中的其他选自H、直链或支链C₁至C₂₅烃基、卤代烃基或全卤烃基；

并且其中对于第二类型重复单元，R¹、R²、R³和R⁴中之一是由式 (D)表示的受阻芳香基

其中A²是选自亚甲基、直链或支链C₂至C₆烃基、卤代烃基或全 卤烃基、或取代或未取代的C₅至C₁₂环状或多环烃基、卤代烃基或全 卤烃基、C₂至C₁₂酯、C₁至C₁₂酰胺、C₁至C₁₂硫化物、或者其组合的 连接基；每个Y独立地为例如OH和SH的官能团；y是1至大约3的 整数；每个R²⁰独立地为C₁至C₁₂烷基(直链或支链的)或环烷基(取 代或未取代的)；并且x是1至大约4的整数；

C₈或更大的烷基；

C₄或更大的卤代烃基或全卤烃基；

C₇或更大的芳烷基；或

杂原子烃基或卤代烃基，其条件是杂原子烃基或卤代烃基不包括 环氧基。

2.根据权利要求1所述的聚合物，其中R⁵和R⁶的至少一个是甲 基。

3.根据权利要求1所述的聚合物，进一步包括第二类型重复单元， 其中X选自-CH₂-、-CH₂-CH₂-或-O-；m是0至5的整数；并且R¹、R²、 R³和R⁴中的至少一个选自直链或支链的C₁至C₂₅烃基、卤代烃基或全 卤烃基，其中这些烃基、卤代烃基或全卤烃基包括一个或多个选自O、 N和Si的杂原子，或R¹、R²、R³和R⁴中的至少一个选自直链或支链 的C₁至C₂₅烃基、卤代烃基或全卤烃基，并且R¹、R²、R³和R⁴中的 其他是H。

4.根据权利要求3所述的聚合物，其中对于第二类型重复单元， X是-CH₂-；m是0；并且R¹、R²、R³和R⁴中的至少一个选自芳烷基 侧基或直链C₁至C₂₅烃基、卤代烃基、全卤烃基，并且R¹、R²、R³和 R⁴中的其他是H。