[发明专利]可直接光限定的聚合物组合物及其方法

说明书

相关申请的交叉参考

本申请要求于2006年12月6日提交的美国临时申请第60/873,201 号的优先权，在此将其全部内容并入本文作为参考。

技术领域

本发明主要涉及可直接光限定的(photodefinable)聚合物、包括 该聚合物的组合物、制造该聚合物和聚合物组合物的方法、该组合物 在形成膜、层和/或结构中的用途、以及包括通过使用该组合物形成的 膜、层或结构的微电子和/或光电子装置。更具体地，本发明涉及包括 具有降冰片烯型重复单元的聚合物骨架的可光限定聚合物及其组合 物、制造该聚合物和组合物的方法、以及该聚合物组合物在微电子和 光电子应用中的用途。

背景技术

微电子和光电子工业已经成功地延长了制造微电子和光电子装置 所需的材料和方法的使用寿命。但是，随着这些装置的复杂性和所需 性能的增加，这些成熟的材料和方法的问题正在变得越来越突出。因 此，有利的将是具有如下所述的新的材料和方法：其将满足这些装置 的未来改进型的需求，并提高现有装置的产率并降低成本。

附图说明

根据本发明的实施方式将在下文参考随后的附图而说明。

图1是下文实施例P2所述的聚合物的百分比透射率相对于波长的 曲线图。

图2描绘了降冰片烯型聚合物内的受阻官能芳香侧基(pendent group)的一方面功能的可能机理。

图3是实施例P12的聚合物的动力学TGA。

图4是下文实施例P7的聚合物的氧化诱导时间的图。

图5是下文实施例P8的聚合物的氧化诱导时间的图。

图6是说明四种聚合物组合物样品的氧化诱导时间的差异的图， 每种样品具有所示的不同固化温度。

具体实施方式

以下说明根据本发明的示例性实施方式。由于公开了这些实施方 式，这些示例性实施方式的各种修改、变更或变化对本领域的技术人 员来说将变得显而易见。例如，对该技术人员可发生的是，可以将本 文公开的两种或多种多环聚合物或聚合物组合物以适当的比例彼此混 合，以形成有利的聚合物组合物。应当理解到，所有这些依赖于本发 明教导的、并且通过这些教导对本领域做出贡献的修改、变更或变化 均视为在本发明的范围和精神之内。

下文公开了各种数值范围和数值。由于这些范围是连续的，它们 包括各个范围的最小值、最大值以及其间的每一数值。而且，当范围 是指整数时，它们包括最小整数值、最大整数值和其间的每个整数。 除非另外明确指出，本说明书和所附权利要求书中指定的各种数值范 围和数值都是近似值，其反映出获得这些数值时所遇到的测量的各种 不确定性，因此应当理解成在所有情况下均由术语“大约”修饰。

如本文所使用，术语“聚合物”是指由较小的分子(单体)构建 的大分子。而且，聚合物理解成具有由多个化学上关联的重复单元(来 源于前述单体)组成的特征性链结构(或骨架)。再进一步，术语“聚 合物”将会理解成还包括来自引发剂、催化剂和合成这些聚合物时存 在的其他元素的残余物，其中该残余物理解成不与其共价结合。再进 一步，尽管在聚合后的提纯处理中通常被除去，但这些残余物和其他 元素通常与聚合物混合或共混，使得当聚合物在容器之间或者在溶剂 或分散介质之间转移时，它们通常留在聚合物中。

如本文所使用，术语“聚合物组合物”是指聚合物和一种或多种 添加至聚合物中的其他材料，用来提供或改良聚合物组合物特定性能。 示例性的材料包括，但不限于，溶剂、抗氧化剂、光引发剂、光敏剂、 交联部分、反应性稀释剂、除酸剂、增粘剂、均化剂和类似材料。

如本文所使用，术语“聚环烯烃”、“聚环状烯烃”和“降冰片 烯型”可以互换使用，并且是指可加成聚合的单体、或产生的重复单 元，包括至少一种例如以下结构A1或A2所示的降冰片烯部分：

根据本发明的实施方式所包括的最简单的降冰片烯型或多环烯烃 单体是双环单体，双环[2.2.1]庚-2-烯，通常称作降冰片烯。但是，如本 文所使用，术语降冰片烯型单体或重复单元将要理解成不仅是指降冰 片烯自身，还指任何取代的降冰片烯、或者其取代和未取代的高级环 状衍生物，例如，以下所示的结构B中m大于零。