[发明专利]高压均匀化装置无效
申请号: | 200780101240.9 | 申请日: | 2007-10-23 |
公开(公告)号: | CN101835530A | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
发明(设计)人: | 安藤成雄;安藤正雄;安藤丰禄 | 申请(专利权)人: | 安藤成雄;安藤正雄;安藤丰禄 |
主分类号: | B01J3/00 | 分类号: | B01J3/00;B01F5/06;B01J3/02;D21B1/04;F04B15/02;F04B53/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 史雁鸣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高压 均匀 化装 | ||
1.一种高压均匀化装置,用于通过使包括由纤维状纤维素和微细固体物中的至少一种构成的原料的悬浊液和半流体之一通过高压均匀化机构的孔,将悬浊液和半流体之一细分/均匀化,所述高压均匀化装置包括:
原料处理活塞;
原料处理凹部,所述原料处理凹部设置在插入构件上、以便将原料处理活塞的顶端插入其中;
增压机构,所述增压机构对所述原料处理活塞和所述插入构件之一增压;
以及原料容纳通路,所述原料容纳通路将所述原料处理凹部与高压处理机构连通起来,
其中,由于插入构件和原料处理活塞的相对运动所导致的体积减小,包含有原料的悬浊液和半流体之一被压送到原料容纳通路中,将原料细分/均匀化,
其中,当原料处理活塞向后移动超过原料处理凹部的开口端时,通过从原料容纳通路将清洗液体供应到原料容纳凹部中,清洗原料容纳凹部的内部。
2.如权利要求1所述的高压均匀化装置,其特征在于,可相对于插入构件移动地配置原料处理活塞,以便当原料处理活塞移动到靠近原料处理凹部的开口端的最后退位置时,清洗原料处理凹部的内部。
3.如权利要求1所述的高压均匀化装置,其特征在于,可相对于固定的原料处理活塞移动地设置作为插入构件的增压机构的可动缸体,以便当原料处理凹部的开口端相对于原料处理活塞的顶端向后移动到最后退位置时,清洗原料处理凹部的内部。
4.如权利要求1、2或3所述的高压均匀化装置,其特征在于,当原料处理活塞被向后移动并从原料处理凹部的开口端拔出时,清洗原料处理凹部的内部。
5.如权利要求1、2或4所述的高压均匀化装置,其特征在于,将原料处理凹部设置在固定于底座上的作为插入构件的缸体上,原料处理活塞被增压机构可移动地插入原料处理凹部。
6.如权利要求1、2或4所述的高压均匀化装置,其特征在于,将原料处理凹部设置在固定于纵向底座上的作为插入构件的缸体上,所述原料处理活塞被增压机构可移动地插入原料处理凹部,并且,将截面形状为皿状的液体池构件配合到原料处理活塞的中间部处的下部台阶的周围,其中,所述下部台阶与原料处理凹部的开口端对向。
7.如权利要求1、2或4所述的高压均匀化装置,其特征在于,原料处理凹部被配置在固定于纵向底座上的作为插入构件的缸体上,原料处理活塞被增压机构可移动地插入原料处理凹部。
8.如权利要求1-7中任何一项所述的高压均匀化装置,其特征在于,经由可被打开/关闭装置打开地配置、以便与原料容纳通路连通的清洗液体入口,以及从该清洗液体入口与所述原料容纳通路连通的原料处理凹部,向原料处理凹部供应所述清洗液体。
9.如权利要求1-8中任何一项所述的高压均匀化装置,其特征在于,清洗液体是从清洗水、消毒剂和有机溶剂中选出的一种。
10.如权利要求1-9中任何一项所述的高压均匀化装置,其特征在于,可移动并且水密性地支承原料处理活塞的密封组件被配置在原料处理凹部内,所述密封组件通过将多个衬垫叠层组装而成。
11.如权利要求1-9中任何一项所述的高压均匀化装置,其特征在于,所述原料处理活塞被可滑动地插入密封组件,所述密封组件被固定并容纳在所述原料凹部内。
12.如权利要求1-9中任何一项所述的高压均匀化装置,其特征在于,所述密封组件被容纳和固定于原料处理凹部内,原料处理活塞通过密封组件被可滑动地插入和支承。
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