[发明专利]相位移掩模及其形成图案的方法

权利要求书

1.一种无铬相位移掩模，包含：

基板，该基板具有图案、第一相位移区和第二相位移区，其中该图案位 于该第一相位移区和该第二相位移区交界处，且该第一相位移区和该第二相 位移区之间具有第一相位差，而该第二相位移区至少具有一末端；以及

第三相位移区，该第三相位移区位于该基板上并专属设置于该第二相位 移区的该末端，且该第三相位移区与该第一相位移区之间具有第二相位差。

2.如权利要求1的无铬相位移掩模，其中该末端与该第一相位移区连 接。

3.如权利要求1的无铬相位移掩模，其中该第一相位差为180度。

4.如权利要求1或3的无铬相位移掩模，其中该第二相位差为90度。

5.如权利要求4的无铬相位移掩模，其中该图案为线状图案。

6.一种形成图案的方法，包含：

提供第一无铬相位移掩模，其包含第一玻璃基板与位于该第一玻璃基板 表面的第一图案、第一相位移区、第二相位移区以及第三相位移区，其中该 第一相位移区和该第二相位移区之间具有第一相位差，该第一相位移区和该 第三相位移区之间具有第二相位差，而该第一相位移区与该第二相位移区彼 此平行交互排列且该第三相位移区专属位于该第二相位移区的末端；

进行第一曝光，将该第一无铬相位移掩模上的该第一图案转移至基材 上；以及

进行第二曝光，以将该第一图案重复转移至该基材上以形成该图案。

7.如权利要求6的形成图案的方法，其中该第一相位差为180度。

8.如权利要求6或7的形成图案的方法，其中该第二相位差为90度。

9.如权利要求8的形成图案的方法，其中该第二曝光为平移该相位移掩 模，以将该第一图案重复转移至该基材上以形成该图案。

10.如权利要求6的形成图案的方法，其中该基材包含光刻胶。