[发明专利]电平转换电路无效
申请号: | 200810003062.2 | 申请日: | 2008-01-18 |
公开(公告)号: | CN101388662A | 公开(公告)日: | 2009-03-18 |
发明(设计)人: | 林育信;廖学坤 | 申请(专利权)人: | 联发科技股份有限公司 |
主分类号: | H03K19/0185 | 分类号: | H03K19/0185 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 任默闻 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电平 转换 电路 | ||
1.一种电平转换电路,其特征在于,所述电平转换电路包含:
反相器,其输入端连接输入电压,用来输出反相输入电压,其中所述输入电压的范围介于低供应电压和零电平之间;
第一NMOS晶体管,其栅极连接所述输入电压,源极接地;
第一厚氧化层NMOS晶体管,其栅极连接第一参考电压,源极耦接所述第一NMOS晶体管的漏极;
第二NMOS晶体管,其栅极连接所述反相输入电压,源极接地;
第二厚氧化层NMOS晶体管,其栅极连接所述第一参考电压,源极耦接所述第二NMOS晶体管的漏极,其中所述第二厚氧化层NMOS晶体管的漏极输出输出电压,所述输出电压的范围介于高供应电压和零电平之间;
第一厚氧化层PMOS晶体管,其栅极连接所述第二厚氧化层NMOS晶体管的漏极,源极连接所述第一厚氧化层NMOS晶体管的漏极;
第二厚氧化层PMOS晶体管,其栅极连接所述第一厚氧化层NMOS晶体管的漏极,源极连接所述第二厚氧化层NMOS晶体管的漏极;
第三厚氧化层PMOS晶体管,其栅极连接所述输入电压,源极连接所述第一厚氧化层PMOS晶体管的漏极,漏极连接所述高供应电压;以及
第四厚氧化层PMOS晶体管,其栅极连接所述反相输入电压,源极连接所述第二厚氧化层PMOS晶体管的漏极,漏极连接所述高供应电压。
2.如权利要求1所述的电平转换电路,其特征在于,所述第一NMOS晶体管和第二NMOS晶体管是薄氧化层NMOS晶体管。
3.如权利要求1所述的电平转换电路,其特征在于,所述电平转换电路进一步包含:
第三NMOS晶体管,其栅极连接至第二参考电压,源极连接至所述第一NMOS晶体管的漏极,漏极连接至所述第一厚氧化层NMOS晶体管的源极;以及
第四NMOS晶体管,其栅极连接至所述第二参考电压,源极连接至所述第二NMOS晶体管的漏极,漏极连接至所述第二厚氧化层NMOS晶体管的源极。
4.如权利要求3所述的电平转换电路,其特征在于,所述第三NMOS晶体管和第四NMOS晶体管是薄氧化层NMOS晶体管。
5.如权利要求1所述的电平转换电路,其特征在于,所述输入电压的范围介于0.5伏特至2.5伏特之间。
6.如权利要求1所述的电平转换电路,其特征在于,所述输出电压的范围介于3伏特至10伏特之间。
7.一种电平转换电路,其特征在于,所述电平转换电路包含:
反相器,其输入端连接输入电压,用来输出反相输入电压,其中所述输入电压的范围介于低供应电压和零电平之间;
第一NMOS晶体管,其栅极连接所述输入电压,源极接地;
第一厚氧化层NMOS晶体管,其栅极连接所述输入电压,源极耦接所述第一NMOS晶体管的漏极;
第二NMOS晶体管,其栅极连接所述反相输入电压,源极接地;
第二厚氧化层NMOS晶体管,其栅极连接所述反相输入电压,源极耦接所述第二NMOS晶体管的漏极,其中所述第二厚氧化层NMOS晶体管的漏极输出输出电压,所述输出电压的范围介于高供应电压和零电平之间;
第一厚氧化层PMOS晶体管,其栅极连接所述第二厚氧化层NMOS晶体管的漏极,源极连接所述第一厚氧化层NMOS晶体管的漏极;
第二厚氧化层PMOS晶体管,其栅极连接所述第一厚氧化层NMOS晶体管的漏极,源极连接所述第二厚氧化层NMOS晶体管的漏极;
第三厚氧化层PMOS晶体管,其栅极连接所述输入电压,源极连接所述第一厚氧化层PMOS晶体管的漏极,漏极连接所述高供应电压;以及
第四厚氧化层PMOS晶体管,栅极连接所述反相输入电压,源极连接所述第二厚氧化层PMOS晶体管的漏极,漏极连接所述高供应电压。
8.如权利要求7所述的电平转换电路,其特征在于:
所述第一NMOS晶体管和第二NMOS晶体管是薄氧化层NMOS晶体管;以及
所述第一厚氧化层NMOS晶体管和第二厚氧化层晶体管是耗尽型NMOS晶体管,具有不大于零的临界电压值。
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