[发明专利]一种薄膜结构及薄膜结构的形成方法有效
申请号: | 200810006536.9 | 申请日: | 2008-03-06 |
公开(公告)号: | CN101524942A | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
发明(设计)人: | 施崇棠;张木财;陈富明 | 申请(专利权)人: | 华硕电脑股份有限公司 |
主分类号: | B44C1/165 | 分类号: | B44C1/165;B41M5/025 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 梁 挥;祁建国 |
地址: | 台湾省台北市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 薄膜 结构 形成 方法 | ||
1.一种薄膜结构,适用于模内装饰技术,其特征是,包含:
一图案部份;
一透明部份;
一边界,位于上述图案部份及上述透明部份的交界处;以及
多数个小孔,形成于上述边界周围的透明部份上;
其中上述多数个小孔提供一空间,将上述薄膜受到的挤压力往上述多数个 小孔处释放。
2.根据权利要求1所述的薄膜结构,其特征是,其中上述边界具有一 转角,上述这些小孔位于上述转角周围的透明部份上。
3.根据权利要求1所述的薄膜结构,其特征是,其中上述薄膜结构接 合于一物体表面,上述图案部份环绕于上述物体表面的一凹陷部设置,上述透 明部份对应于上述凹陷部设置。
4.根据权利要求3所述的薄膜结构,其特征是,其中上述边界对应上 述物体表面及上述凹陷部间的一不连续处。
5.一种薄膜结构的形成方法,适用于模内装饰技术,其特征是,其中 包含下列步骤:
提供一薄膜;
图案化上述薄膜,形成一图案部份、一透明部份及一边界于上述薄膜上, 其中上述边界为上述图案部份及上述透明部份的交界;以及
形成多数个小孔于上述边界周围的透明部份上;
其中上述多数个小孔提供一空间,将上述薄膜受到的挤压力往上述多数个 小孔处释放。
6.根据权利要求5所述的形成方法,其特征是,其中上述图案部份于 上述边界具有一转角,上述这些小孔位于上述转角周围的透明部份上。
7.根据权利要求5所述的形成方法,其特征是,其中上述薄膜结构接合 于一物体表面,上述图案部份环绕于上述物体表面的一凹陷部设置,上述透明 部份对应于上述凹陷部设置。
8.根据权利要求7所述的形成方法,其特征是,其中上述边界对应上 述物体表面及上述凹陷部间的一不连续处。
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