[发明专利]一种薄膜结构及薄膜结构的形成方法有效

专利信息
申请号: 200810006536.9 申请日: 2008-03-06
公开(公告)号: CN101524942A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 施崇棠;张木财;陈富明 申请(专利权)人: 华硕电脑股份有限公司
主分类号: B44C1/165 分类号: B44C1/165;B41M5/025
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 梁 挥;祁建国
地址: 台湾省台北市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 一种 薄膜 结构 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种薄膜结构,适用于模内装饰技术,其特征是,包含:

一图案部份;

一透明部份;

一边界,位于上述图案部份及上述透明部份的交界处;以及

多数个小孔,形成于上述边界周围的透明部份上;

其中上述多数个小孔提供一空间,将上述薄膜受到的挤压力往上述多数个 小孔处释放。

2.根据权利要求1所述的薄膜结构,其特征是,其中上述边界具有一 转角,上述这些小孔位于上述转角周围的透明部份上。

3.根据权利要求1所述的薄膜结构,其特征是,其中上述薄膜结构接 合于一物体表面,上述图案部份环绕于上述物体表面的一凹陷部设置,上述透 明部份对应于上述凹陷部设置。

4.根据权利要求3所述的薄膜结构,其特征是,其中上述边界对应上 述物体表面及上述凹陷部间的一不连续处。

5.一种薄膜结构的形成方法,适用于模内装饰技术,其特征是,其中 包含下列步骤:

提供一薄膜;

图案化上述薄膜,形成一图案部份、一透明部份及一边界于上述薄膜上, 其中上述边界为上述图案部份及上述透明部份的交界;以及

形成多数个小孔于上述边界周围的透明部份上;

其中上述多数个小孔提供一空间,将上述薄膜受到的挤压力往上述多数个 小孔处释放。

6.根据权利要求5所述的形成方法,其特征是,其中上述图案部份于 上述边界具有一转角,上述这些小孔位于上述转角周围的透明部份上。

7.根据权利要求5所述的形成方法,其特征是,其中上述薄膜结构接合 于一物体表面,上述图案部份环绕于上述物体表面的一凹陷部设置,上述透明 部份对应于上述凹陷部设置。

8.根据权利要求7所述的形成方法,其特征是,其中上述边界对应上 述物体表面及上述凹陷部间的一不连续处。

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