[发明专利]排气装置、包括该排气装置的基板处理装置以及排气方法

权利要求书

1.一种排气装置，其特征在于包括：

排气管道，连接在处理室上，把所述处理室内的反应副产物排出；

容器形状的收集筒，连接到在所述排气管道的侧壁上形成的排出口上，收集所述排气管道内的反应副产物；以及

紧固构件，连接在所述收集筒上，并把所述收集筒连接在所述排出口上。

2.根据权利要求1所述的排气装置，其特征在于，所述紧固构件是从所述收集筒的外壁沿所述收集筒的半径方向延伸的法兰盘。

3.根据权利要求1所述的排气装置，其特征在于，还包括密封构件，夹在所述排气管道和所述紧固构件之间。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的排气装置，其特征在于，所述排气管道包括：

第一排气管道，连接在所述处理室上，基本与地面垂直配置；

第二排气管道，与所述第一排气管道平行配置；以及

连接管道，连接所述第一排气管道和所述第二排气管道；

在所述连接管道上形成所述排出口。

5.根据权利要求4所述的排气装置，其特征在于，所述连接管道包括导向面，在所述连接管道的内部朝向所述排出口向下方倾斜设置，把所述反应副产物导向所述排出口。

6.根据权利要求4所述的排气装置，其特征在于，所述连接管道包括导向面，设置在所述连接管道内部，向下倾斜，所述导向面的下端配置在所述排出口的垂直方向的上部。

7.根据权利要求1所述的排气装置，其特征在于，所述排气管道包括导向面，在所述排气管道的内部朝向所述排出口向下方倾斜设置，把所述反应副产物导向所述排出口。

8.根据权利要求4所述的排气装置，其特征在于，还包括包围所述排气管道的加热套。

9.根据权利要求4所述的排气装置，其特征在于，还包括压力调节器，连接在所述第二排气管道上，调节所述第二排气管道内的压力。

10.根据权利要求4所述的排气装置，其特征在于，还包括阀门，连接在所述第二排气管道上，打开或关闭所述第二排气管道。

11.一种基板处理装置，其特征在于包括：

壳体，具有对基板实施处理工序的空间，在下部形成有排气口；

卡盘，设置在所述壳体内部，放置所述基板；

等离子体生成构件，连接在所述壳体的上部，在实施处理工序中生成等离子体，并提供到放置在所述卡盘上的所述基板的上部；以及

排气装置，连接在所述排气口上，排出所述壳体内的反应副产物，其中，

所述排气装置包括：

排气管道，连接在所述壳体上，排出所述壳体内的反应副产物；

容器形状的收集筒，连接到在所述排气管道的侧壁上形成的排出口上，收集所述排气管道内的反应副产物；以及

紧固构件，连接在所述收集筒上，并把所述收集筒连接在所述排出口上。

12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于，所述排气管道包括：

第一排气管道，连接在所述壳体上，基本与地面垂直配置；

第二排气管道，与所述第一排气管道平行配置；以及

连接管道，连接所述第一排气管道和所述第二排气管道；

在所述连接管道上形成所述排出口。

13.根据权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于，所述连接管道包括导向面，在所述连接管道的内部朝向所述排出口向下方倾斜设置，把所述反应副产物导向所述排出口。

14.根据权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于，所述连接管道包括导向面，设置在所述连接管道的内部，向下倾斜，所述导向面的下端配置在所述排出口的垂直方向的上部。

15.根据权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于，所述排气管道包括导向面，在所述排气管道的内部朝向所述排出口向下方倾斜设置，把所述反应副产物导向所述排出口。

16.一种排气方法，通过连接在处理室上的排气管道，把所述处理室内的气体排出，其特征在于，

在所述排气管道的侧壁上形成贯通所述侧壁的排出口，把收集筒连接在所述排出口上，然后，通过所述排气管道把所述处理室内的气体排出，同时通过所述收集筒收集在所述气体中含有的反应副产物。