[发明专利]阻隔性层叠体、阻隔性膜基板、它们的制造方法以及器件

权利要求书

1.一种阻隔性层叠体，其特征在于，其具有至少1层有机层和至少1层无机层，且所述有机层为包含具有由下述通式(1)表示的结构单元的聚合物的层，

通式(1)

式中，R¹及R²各自独立为氢原子或甲基，L表示碳原子数为8以上且不含有氧原子、氮原子、硫原子的开链状亚烷基。

2.如权利要求1中所述的阻隔性层叠体，其中，在所述聚合物中所述由通式(1)表示的结构单元存在的量为50质量％～100质量％。

3.如权利要求1中所述的阻隔性层叠体，其中，所述有机层对于水的接触角为75度以上，且所述有机层对于二碘甲烷的接触角为40度以上。

4.一种阻隔性膜基板，其特征在于，在塑料膜的至少一个面上具有权利要求1～3中任一项所述的阻隔性层叠体。

5.如权利要求4中所述的阻隔性膜基板，其中，在所述塑料膜的两面上具有所述阻隔性层叠体。

6.如权利要求4中所述的阻隔性膜基板，其中，在所述塑料膜的一个面上具有至少1层所述阻隔性层叠体和在其上设置的消光剂层，在另一个面上具有至少1层所述阻隔性层叠体。

7.一种制造具有至少1层有机层和至少1层无机层的阻隔性层叠体的方法，其特征在于，包括通过使含有由下述通式(2)表示的二官能单体的单体混合物聚合而形成所述有机层的工序，

通式(2)

Ac¹-O-L-O-Ac²

式中，Ac¹及Ac²各自独立地表示丙烯酰基或甲基丙烯酰基，L表示碳原子数为8以上且不含有氧原子、氮原子、硫原子的开链状亚烷基。

8.如权利要求7中所述的制造阻隔性层叠体的方法，其中，所述单体混合物中由通式(2)表示的二官能单体的含量为50质量％～100质量％。

9.如权利要求7中所述的制造阻隔性层叠体的方法，其中，包括通过在通常为100Pa以下的真空中将有机层和无机层层叠而形成所述阻隔性层叠体的工序。

10.如权利要求7中所述的制造阻隔性层叠体的方法，其中，包括在100Pa以下的真空中将所述单体混合物进行聚合的工序。

11.如权利要求10中所述的制造阻隔性层叠体的方法，其中，包括在100Pa以下的真空中通过照射2J/cm²以上的能量的紫外线聚合来将配置为层状的所述单体混合物进行聚合的工序。

12.一种制造阻隔性膜基板的方法，其特征在于，通过权利要求7～11中任一项所述的制造方法在塑料膜的至少一个面上形成阻隔性层叠体。

13.如权利要求12中所述的制造阻隔性膜基板的方法，其中，以不同顺序包括下述的工序：在所述塑料膜的一个面上形成至少1层所述阻隔性层叠体并在其上进一步形成消光剂层的工序、和在另一个面上形成至少1层所述阻隔性层叠体的工序。

14.使用权利要求1～3中任一项所述的阻隔性层叠体来密封的器件。

15.如权利要求14中所述的器件，其中，所述器件为电子器件。

16.如权利要求14中所述的器件，其中，所述器件为有机EL元件。

17.将权利要求4中所述的阻隔性膜基板用作基板的器件。

18.如权利要求17中所述的器件，其中，所述器件为电子器件。

19.如权利要求17中所述的器件，其中，所述器件为有机EL元件。

20.使用权利要求4中所述的阻隔性膜基板来密封的器件。

21.将权利要求4中所述的阻隔性膜基板用作基板的光学构件。