[发明专利]阻隔性层叠体、阻隔性膜基板、它们的制造方法以及器件有效

专利信息
申请号: 200810009965.1 申请日: 2008-02-15
公开(公告)号: CN101244641A 公开(公告)日: 2008-08-20
发明(设计)人: 阿形祐也 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: B32B7/02 分类号: B32B7/02;B32B27/06;C09K3/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 阻隔 层叠 性膜基板 它们 制造 方法 以及 器件
【说明书】:

技术领域

本发明涉及阻隔性层叠体,特别涉及粘附性(也称为密合性、附着性)优异且水蒸气透过率低的阻隔性层叠体,还涉及具有该阻隔性层叠体的阻隔性膜基板、以及使用它们的有机EL元件(有机电致发光元件)等器件。

背景技术

一直以来,在塑料膜的表面上形成了氧化铝、氧化镁、氧化硅等金属氧化物薄膜的阻隔性膜,广泛应用于需要阻隔水蒸气或氧等各种气体的物品的包装、或为了防止食品、工业用品及医药品等变质的包装用途中。

近年来,液晶显示元件或有机EL元件等领域中,开始采用塑料膜基板来代替沉重且易开裂的玻璃基板。塑料膜基板可以适用于辊对辊(Rollto Roll)方式,因此在成本方面也有利。但塑料膜基板与玻璃基板比较,存在水蒸气阻隔性差的问题。因此,在液晶显示元件中使用塑料膜基板时,水蒸气侵入液晶单元内,产生显示缺陷。

已知的是,为了解决该问题,使用在塑料膜上形成了水蒸气阻隔层的阻隔性膜基板。作为阻隔性膜基板,已知的有:在塑料膜上蒸镀氧化硅而成的膜基板(例如,参照日本特公昭53-12953号公报第1页~第3页)、蒸镀氧化铝而成的膜基板(例如,参照日本特开昭58-217344号公报第1页~第4页),它们均具有水蒸气透过能力为约1g/m2/天的阻隔性。

但是,用于有机EL元件的基板要求具有更高的水蒸气阻隔性。作为用于对应这种要求的手段,已经报道了:通过使有机层与无机层的层叠体作为阻隔层,实现水蒸气透过率低于0.1g/m2/天的技术(例如,参照日本特开2003-335880号公报及日本特开2003-335820号公报)以及实现低于0.01g/m2/天的更优异的技术(参照美国专利第6413645号说明书)。

但是,在此公开的有机无机层叠型的阻隔性膜基板具有下述的问题点:对用于有机EL元件来说阻隔性不一定充分、或有机层和无机层由于力学上的应力而容易剥离。因此,期待开发水蒸气透过率低于0.01g/m2/天且粘附性良好的有机无机层叠型的阻隔性层叠体、和在塑料膜上形成了该阻隔性层叠体的气体阻隔性膜基板、以及使用了它们的有机EL元件等器件。

发明内容

本发明的第1目的在于提供水蒸气透过率低于0.01g/m2/天且粘附性良好的有机无机层叠型的阻隔性层叠体和阻隔性膜基板。本发明的第2目的在于提供使用了上述阻隔性层叠体或阻隔性膜基板的耐久性高的器件。

本发明人进行了反复深入的研究,结果发现在包含有机层和无机层的阻隔性层叠体中,主要使用疏水性比较高的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯作为用于形成有机层的聚合物制造用单体,由此形成的阻隔性层叠体的力学强度(粘附性)提高,从而提供了以下记载的本发明。

[1]一种阻隔性层叠体,其特征在于,其具有至少1层有机层和至少1层无机层,且所述有机层为包含具有由下述通式(1)表示的结构单元的聚合物的层,

通式(1)

式中,R1及R2各自独立为氢原子或甲基,L表示碳原子数为8以上且不包括氧原子、氮原子、硫原子的开链状亚烷基。

[2]如[1]中所述的阻隔性层叠体,其中,在所述聚合物中所述由通式(1)表示的结构单元存在的量为50质量%~100质量%。

[3]如[1]或[2]中所述的阻隔性层叠体,其中,所述有机层对于水的接触角为75度以上,且所述有机层对于二碘甲烷的接触角为40度以上。

[4]一种阻隔性膜基板,其特征在于,在塑料膜的至少一个面上具有[1]~[3]中任一项所述的阻隔性层叠体。

[5]如[4]中所述的阻隔性膜基板,其中,在所述塑料膜的两面上具有所述阻隔性层叠体。

[6]如[4]或[5]中所述的阻隔性膜基板,其中,在所述塑料膜的一个面上具有至少1层所述阻隔性层叠体和在其上设置的消光剂层,在另一个面上具有至少1层所述阻隔性层叠体。

[7]一种制造具有至少1层有机层和至少1层无机层的阻隔性层叠体的方法,其特征在于,包括通过使含有由下述通式(2)表示的二官能单体的单体混合物聚合而形成所述有机层的工序,

通式(2)

Ac1-O-L-O-Ac2

式中,Ac1及Ac2各自独立地表示丙烯酰基或甲基丙烯酰基,L表示碳原子数为8以上且不含有氧原子、氮原子、硫原子的开链状亚烷基。

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