[发明专利]一种有机电致发光显示器掩膜板的制作方法无效

专利信息
申请号: 200810026445.1 申请日: 2008-02-25
公开(公告)号: CN101250685A 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 柯贤军;苏君海;谢志生 申请(专利权)人: 信利半导体有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 广州知友专利商标代理有限公司 代理人: 宣国华
地址: 516600广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 有机 电致发光 显示器 掩膜板 制作方法
【权利要求书】:

1、一种有机电致发光显示器掩膜板的制作方法,其特征在于包括以下步骤:

(1)取一张导磁薄钢片,剪裁成所需的大小和形状,利用不锈钢刻蚀或者通过激光切割在薄钢片上开孔以形成图案,该图案按照OLED设计要求形状制作;

(2)将面积大于薄钢片的丝网平铺在刻有图案的导磁薄钢片上,在导磁薄钢片的边缘涂上拉丝网用的胶水,再去除导磁薄钢片图案区域的丝网,然后将固定在导磁薄钢片边缘上的丝网进行拉伸,导磁薄钢片也被拉伸绷紧;

(3)取一框体,将其贴在拉伸丝网上形成网框,粘接稳固后,沿网框的外缘裁下;

(4)取另一块导磁钢板切割成所需的掩膜板外框,然后把掩膜板外框置于导磁薄钢片图案开孔区域的外围,再将该掩膜板外框与开孔区域外围的导磁薄钢片连接固定在一起,割开丝网,网框脱落,最后沿掩膜板外框的外缘切去多余钢片,完成掩膜板的制作。

2、根据权利要求1所述的有机电致发光显示器掩膜板的制作方法,其特征在于:所述不锈钢刻蚀是指:把所需图案制作成掩模板的曝光基材,做好备用;将所需规格的薄钢片洗净并双面均匀涂抹光刻胶,然后在烘箱里按光刻胶的硬化温度热烘,再取出冷却,使用上述曝光基材在曝光机里单面曝光,再用碱液显影,便在薄钢片上获得所需刻蚀的图案,最后经酸刻液的刻蚀形成以开孔组成的图案。

3、根据权利要求2所述的有机电致发光显示器掩膜板的制作方法,其特征在于:所述曝光基材为菲林或者铬板。

4、根据权利要求1所述的有机电致发光显示器掩膜板的制作方法,其特征在于:所述掩膜板外框厚度为4~6mm,宽度为8~12mm;所述掩膜板外框的形状为多边形。

5、根据权利要求1所述的有机电致发光显示器掩膜板的制作方法,其特征在于:所述导磁薄钢片的厚度范围是20~150μm。

6、根据权利要求1所述的有机电致发光显示器掩膜板的制作方法,其特征在于:所述步骤(4)中,焊接时掩膜板外框与薄钢片的相对位置通过夹具进行对准,焊接点在掩膜板外框上均匀分布。

7、根据权利要求1所述的有机电致发光显示器掩膜板的制作方法,其特征在于:所述步骤(4)中,掩膜板外框和网框中导磁薄钢片的连接形式为激光焊接或者胶水粘合。

8、根据权利要求1所述的有机电致发光显示器掩膜板的制作方法,其特征在于:所述步骤(2)中,平铺在导磁薄钢片上的丝网边缘大于导磁薄钢片边缘8~12cm,在导磁薄钢片的边缘涂上宽度为4~5cm的胶水。

9、根据权利要求1所述的有机电致发光显示器掩膜板的制作方法,其特征在于:所述形成导磁薄钢片上图案的开孔为矩形状开孔或者线条状开孔。

10、根据权利要求1所述的有机电致发光显示器掩膜板的制作方法,其特征在于:所述步骤(4)中,是用线切割或者锉刀沿掩膜板外框的外缘切去多余钢片。

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