[发明专利]一种有机电致发光显示器掩膜板的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种在显示器制作过程中用于真空镀膜部件，特别涉及一种有机电致发光显示器掩膜板的制作方法。

背景技术

有机电致发光显示器(OLED)行业的起步和发展，给我国在显示器行业在世界的地位带来了机遇。目前，用于OLED制作过程中真空镀膜的掩膜板基本上都是产自日、韩等国，国内的OLED掩膜板也大都是从日、韩等国进口，因为掩膜板加工精度要求很高，即指拉伸和焊接金属材料难度较大，造成制造工艺十分复杂，使得掩膜板的价格十分昂贵。

OLED镀膜掩膜板是由一种导磁性薄不锈钢片和导磁不锈钢外框构成。在现有技术中，薄钢片上预先开有各种矩形、圆形或其它类型的小孔，掩膜板在OLED制作中与玻璃基板通过磁铁吸附在一起，在真空环境下有机材料或者金属蒸汽会沉积在未被掩膜板挡住的区域而形成设计者所需的特定图案，被掩膜板盖住部分没有材料沉积而被保护起来。在真空中，玻璃基板与掩膜板通过磁铁吸附被悬于被蒸镀材料上方，由于玻璃基板上的图案精度很高，所以要求组成掩膜板的材料导磁性好，且开口线条非常平整、规则；玻璃基板与掩膜板贴合后，二者的相对位置不能移动，精度要求10μ级或以下，那么必然要求掩膜板上的薄钢片具有较强的张力(一般为20lbs左右)。

中国发明专利《有机真空镀膜掩膜板的制作方法》(0013136.0)，公开了用焊锡将合金丝在铁条上进行固定的技术方案来保持张力，但是，掩膜板在真空镀膜以后，铁条上面的合金丝容易松塌，直接影响拉力，并且合金丝间的线距也不易控制；还有，中国发明专利《真空蒸镀线状掩膜的掩膜板》(0311675.9)，公开的技术方案虽然可以实现合金丝的网状拉伸，但是由于是由许多平行排列的丝线组成，而每根线必须独立拉伸，这样就使得线间距和张力一致性很难控制，而且在拉伸完成后，固定架用螺钉进行固定，增加了真空腔室内的操作难度。而且，以上的两种方法不易控制精度，最高精度只能达到3线/mm，但是，对于OLED的像素(即一个R，G，B单元)而言，1mm的线宽就已经非常大了，而在实际所应用的线宽R，G，B三线总和在200μm左右，其精度远远高于1mm的单线宽。

发明内容

本发明的目的是提供一种能够降低生产成本、简化工艺流程且产品结构更为稳固的有机电致发光显示器掩膜板的制作方法。

本发明的目的通过以下的技术方案来实现：一种有机电致发光显示器掩膜板的制作方法，包括以下步骤：(1)取一张导磁薄钢片，剪裁成所需的大小和形状，利用不锈钢刻蚀或者通过激光切割在薄钢片上开孔以形成图案，该图案按照OLED设计要求形状制作；(2)将面积大于薄钢片的丝网平铺在刻有图案的导磁薄钢片上，在导磁薄钢片的边缘涂上拉丝网用的胶水，再去除导磁薄钢片图案区域的丝网，然后将固定在导磁薄钢片边缘上的丝网进行拉伸，导磁薄钢片也被拉伸绷紧；(3)取一框体，将其贴在拉伸丝网上形成网框，粘接稳固后，沿网框的外缘裁下；(4)取另一块导磁钢板切割成所需的掩膜板外框，然后把掩膜板外框置于导磁薄钢片图案开孔区域的外围，再将该掩膜板外框与开孔区域外围的导磁薄钢片连接在一起，割开丝网，网框脱落，最后沿掩膜板外框的外缘切去多余钢片，完成掩膜板的制作。

本发明通过丝网拉伸薄钢片，再通过贴合外框、焊接掩膜板外框，使得薄钢片的张力得以保持，形成具有良好张力的掩模板，掩模板外框与具有张力的薄钢片能够稳固地连接在一起，以使掩膜板在真空镀膜过程中可以一直保持很好的张力，实现较好的蒸镀效果。

所述不锈钢刻蚀是指：把所需图案制作成掩模板的曝光基材，做好备用；将所需规格的薄钢片洗净并双面均匀涂抹光刻胶，然后在烘箱里按光刻胶的硬化温度热烘，再取出冷却，使用上述曝光基材在曝光机里单面曝光，再用碱液显影，便在薄钢片上获得所需刻蚀的图案，最后经酸刻液的刻蚀形成以开孔组成的图案。

本发明使用不锈钢刻蚀技术用曝光基材的曝光方法形成图案，由于曝光机的精度可到达1μ级，因而制作出的掩膜板精度很高，大大简化了制造掩模板的工序流程；用激光刻蚀形成图案的精度虽然稍低，但也能够满足实际需求。

所述曝光基材为菲林或者铬板。

所述掩膜板外框厚度为4～6mm，宽度为8～12mm；所述掩膜板外框的形状为多边形。

所述薄钢片的厚度范围是20～150μm。

所述步骤(4)中，焊接时掩膜板外框与薄钢片的相对位置通过夹具进行对准，焊接点在掩膜板外框上均匀分布。可以使得薄钢片不会变形，而且掩膜板外框在水平方向上受力均匀不会翘起，使用效果更好。