[发明专利]卤水深度处理工艺

权利要求书

1.卤水深度处理工艺，其特征在于，将卤水预处理，使卤水中的Ca²⁺、Mg²⁺和SS浓度小于1.0mg/L，再将卤水pH值调整为5.0～9.0，使用纳滤膜过滤装置过滤。

2.根据权利要求1所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，所述的卤水中，NaCl浓度大于270g/L，Na₂SO₄浓度小于50g/L。

3.根据权利要求2所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，所述的卤水中，还含有Ca²⁺、Mg²⁺和SiO₂中的一种或几种。

4.根据权利要求3所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，所述的卤水中，还含有Ca²⁺、Mg²⁺和SiO₂的浓度小于2g/L。

5.根据权利要求3所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，所述的卤水中，还含有固体悬浮物，所述固体悬浮物浓度小于5g/L。

6.根据权利要求3所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，所述的预处理步骤中，向卤水中加入NaOH、Ca(OH)₂、Na₂CO₃和CO₂中的一种或几种，反应完全。

7.根据权利要求6所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，所述的预处理步骤中，NaOH的反应过碱量为0.1～0.4g/L，Na₂CO₃的反应过碱量为0.3～0.6g/L。

8.根据权利要求6所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，所述的预处理步骤中，反应完全后，加入聚丙烯酰胺或聚丙烯酸钠高分子絮凝剂和三氯化铁，过滤除去固体沉淀和悬浮物。

9.根据权利要求8所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，所述卤水经预处理后，Ca²⁺、Mg²⁺、浓度均小于1mg/L，SS的浓度小于1mg/L。

10.根据权利要求8所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，高分子絮凝剂加入量为0.5～3mg/L，FeCl₃加入量为0～15mg/L。

11.根据权利要求1-7任一权利要求所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，所述卤水经预处理后，NaCl浓度大于100g/L。

12.根据权利要求11所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，所述卤水经预处理后，NaCl浓度大于250g/L。

13.根据权利要求11所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，所述卤水经预处理后，Na₂SO₄浓度小于饱和浓度。

14.根据权利要求13所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，所述卤水经预处理后，Na₂SO₄浓度小于50g/L。

15.根据权利要求1所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，纳滤膜过滤装置的工作压力为2.0～3.5MPa，温度为5～60℃。

16.根据权利要求1所述的卤水深度处理工艺，其特征在于，使用纳滤膜过滤装置过滤后，纳滤膜两边分别为浓缩液和精制卤水，回收精制卤水，将回收的浓缩液与预处理过的卤水一起进行过滤。