[发明专利]一种氧化物薄膜的湿法刻蚀装置

权利要求书

1、一种薄膜基片的湿法刻蚀装置，包括一刻蚀槽(8)和一装载薄膜基片(2)的载体(9)，其特征在于：所述刻蚀槽(8)底部是弧形；所述载体(9)设有车轮(1)，沿刻蚀槽(8)底部运动。

2、如权利要求1所述的薄膜基片的湿法刻蚀装置，其特征在于：所述刻蚀槽(8)底部设有轨道，车轮(1)沿轨道运动。

3、如权利要求2所述的氧化物薄膜的湿法刻蚀装置，其特征在于：所述载体(9)上设有基片夹(4)，固定薄膜基片(2)。

4、如权利要求3所述的氧化物薄膜的湿法刻蚀装置，其特征在于：所述载体(9)底部两侧各设有两个车轮(1)；沿刻蚀槽(8)的底部设有两条弧形轨道(6)。

5、如权利要求4所述的氧化物薄膜的湿法刻蚀装置，其特征在于：所述刻蚀槽(8)的出入口分别设有水平轨道(7)，水平轨道(7)与弧形轨道(6)相接。

6、如权利要求5所述的薄膜基片的湿法刻蚀装置，其特征在于：所述刻蚀槽(8)上有盖板(5)，盖板(5)不干涉载体(9)进出刻蚀槽(8)。

7、如权利要求6所述的氧化物薄膜的湿法刻蚀装置，其特征在于：所述载体(9)的高度小于刻蚀槽(8)的深度。

8、如权利要求5或6所述的氧化物薄膜的湿法刻蚀装置，其特征在于：还包括一控制单元，所述控制单元控制载体(9)运动。