[发明专利]CdTe薄膜的表面腐蚀及用此法制备CdTe太阳电池有效
申请号: | 200810045731.2 | 申请日: | 2008-08-05 |
公开(公告)号: | CN101335310A | 公开(公告)日: | 2008-12-31 |
发明(设计)人: | 冯良桓;李卫;蔡亚平;武莉莉 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/042;H01L31/0224;H01L21/465 |
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地址: | 610064四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | cdte 薄膜 表面 腐蚀 法制 太阳电池 | ||
1.一种CdTe薄膜太阳电池的腐蚀方法,其特征是:先把待腐蚀的CdTe薄膜样品放入硝酸、冰乙酸、去离子水和NaAc组成的腐蚀液中,温度控制在20℃~50℃,时间1~15分钟;然后把腐蚀后的CdTe薄膜样品用去离子水冲洗,并用氮气吹干;最后,在腐蚀的CdTe薄膜样品上沉积背接触层和背电极以制备CdTe太阳电池。
2.如权利要求1所述的CdTe薄膜太阳电池的腐蚀方法,其特征是:腐蚀液中硝酸的质量百分比65%~68%,冰乙酸的质量百分比为99.5%,硝酸、冰乙酸、去离子水的体积比为(1~5)∶(60~100)∶(10~60),NaAc为1g/L~30g/L。
3.如权利要求1所述的CdTe薄膜太阳电池的腐蚀方法,其特征是:CdTe薄膜样品的结构为玻璃衬底/透明导电膜/n-CdS/p-CdTe,并经过了CdCl2退火处理。
4.如权利要求1所述的CdTe薄膜太阳电池的腐蚀方法,其特征是:背接触层为含Cu或不含Cu材料,为ZnTe:Cu、HgTe:Cu、Sb2Te3或NiTe2中的任一种,厚度30nm~200nm。
5.如权利要求1所述的CdTe薄膜太阳电池的腐蚀方法,其特征是:背电极为Ni、Ni/Al合金或Au中的一种,厚度100nm~3μm。
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