[发明专利]CdTe薄膜的表面腐蚀及用此法制备CdTe太阳电池有效

专利信息
申请号: 200810045731.2 申请日: 2008-08-05
公开(公告)号: CN101335310A 公开(公告)日: 2008-12-31
发明(设计)人: 冯良桓;李卫;蔡亚平;武莉莉 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/042;H01L31/0224;H01L21/465
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610064四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: cdte 薄膜 表面 腐蚀 法制 太阳电池
【说明书】:

技术领域

发明属于半导体器件加工领域,特别涉及CdTe薄膜的表面腐蚀及用此法制备CdTe太阳电池。

背景技术

CdTe太阳电池的基本结构为:玻璃衬底(G)/透明导电膜(T)/n-CdS(W)/p-CdTe(A)/背电极(M),如图1所示。背电极常采用金属,但CdTe的功函数较高(5.5eV),很难找到一种高功函数的金属与其形成欧姆接触,从而极大影响了太阳电池的性能。

目前,解决的办法就是先对CdTe薄膜表面进行腐蚀,再沉积背接触层材料。通常,CdTe薄膜表面的化学腐蚀采用溴甲醇腐蚀和磷硝酸腐蚀,研究表明:采用溴甲醇腐蚀CdTe太阳电池,溴常穿透CdTe薄膜,甚至到达CdTe/CdS界面,另外,溴甲醇腐蚀液挥发性强,有毒,不利于工业化生产;工业化生产常采用磷硝酸腐蚀,但不足之处是存在择优腐蚀,特别是沿晶粒间界腐蚀,导致金属离子或杂质沿晶粒间界扩散,形成导电旁路。

发明内容

本发明的目的是为了解决上述存在的缺陷和不足,改进了CdTe太阳电池制备工艺中的湿化学腐蚀工艺和背接触技术,即各向同性腐蚀出富Te层,而不受前期制备工艺和过程的影响(如CdTe薄膜的沉积、CdTe薄膜的后处理),同时保持晶粒的完整性;随后沉积含Cu或不含Cu背接触层(如ZnTe:Cu、HgTe:Cu、Sb2Te3、NiTe2),避免直接沉积Cu形成比较复杂的CuxTe结构。

为实现本发明,本发明的技术方案采用冰乙酸、硝酸、NaAc和去离子水组成的腐蚀液,在适当的温度下进行腐蚀,然后再沉积含Cu或不含Cu背接触层,如ZnTe:Cu、HgTe:Cu、Sb2Te3或NiTe2等中的任一种,最后镀上背电极,如Ni、Ni/Al合金或Au等中的一种,以完成器件的制备。

在本发明中,硝酸作氧化剂,冰乙酸提供酸性环境,NaAc起缓冲作用,可保持溶液的pH值不变,使反应更稳定,更容易控制,不受CdTe薄膜历史状况的影响,其反应方程式如下:

3CdTe+8HNO3→3Te+3Cd(NO3)2+2NO+4H2O    (1)

CdTe+4HNO3→Te+Cd(NO3)2+2NO2+2H2O      (2)

Te在CdTe太阳电池中,降低了Te和CdTe之间的势垒高度,减小了接触电阻,进而减少了在晶界的复合电流,同时作为P+层,其能隙约0.33eV,与CdTe界面的价带偏移约0.26eV,有利于空穴由CdTe进入Te层。同时,还可扩展长波响应。由于化学腐蚀只能生成富Te层,为了减小肖特基势垒,还需沉积含Cu或不含Cu背接触层,减小界面态密度,增加pn结附近的载流子浓度,降低肖特基势垒高度。采用上述腐蚀液对面积为30cm×40cm CdTe多晶薄膜进行化学腐蚀,清洗后,直接镀上电极制成CdTe薄膜太阳电池,获得了约200个面积~0.07cm2的小电池,其转换效率分布均匀,而且转换效率>9%;相同工艺制备的CdTe多晶薄膜进行化学腐蚀后沉积背接触层,如ZnTe:Cu,最后镀上电极制成CdTe薄膜太阳电池,光电转换效率平均增加40%~60%。因此,本发明的有益效果是:采用这种方法腐蚀并沉积含Cu或不含Cu背接触层,更容易控制腐蚀反应进程,器件性能的稳定性和重复性好,可显著提高太阳电池的性能。

附图说明

图1为CdTe太阳电池的基本结构图。

图2a-2e为CdTe薄膜的表面腐蚀及用此法制备CdTe太阳电池的示意图。

图1和图2中的符号表示:G为玻璃衬底,T为透明导电膜,W为CdS,A为CdTe,Te为碲,B为背接触层,M为背电极。

具体实施方式

以下结合附图2和实施例详述本发明。

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