[发明专利]一种铜键合丝光亮化热处理的保护装置有效
申请号: | 200810049151.0 | 申请日: | 2008-01-24 |
公开(公告)号: | CN101492822A | 公开(公告)日: | 2009-07-29 |
发明(设计)人: | 吕长江;吕长春 | 申请(专利权)人: | 济源优克电子材料有限公司 |
主分类号: | C23F17/00 | 分类号: | C23F17/00;C22F1/08;C23G5/00 |
代理公司: | 郑州中原专利事务所有限公司 | 代理人: | 张君燕 |
地址: | 454600河南省济源市*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 铜键合 丝光 热处理 保护装置 | ||
技术领域
本发明属于一种铜键台丝光亮化热处理工艺设备中的保护装置。
背景技术
由于铜键合丝与金丝、铝丝相比具有优良的机械性能、电学性能、热学性能和低的金属间化合物增长,提高了芯片频率和可靠性,适应了低成本、细间距、高引出端元器件封装的发展,成为替代金丝的最佳键合材料。但是,由于铜的性质比金和铝要活泼,在常温下就可以氧化。目前的一些键合金丝、键合铝丝的专用设备无法满足铜键合丝制备的需要。同时,由于键合丝的技术要求较高,键合丝表面的轻微氧化都会给半导体元器件的可靠性降低60%,因此,铜键合丝的制备过程中不但要求键合丝表面不被氧化,还要要求能够把键合丝表面已有的轻微氧化物除去。因H2是还原性气体,高温时能够跟cu2O、CuO反应,达到去除铜键合丝表面氧化物的效果。但是,H2属于易燃易爆气体,在键合丝的生产过程中如果有大量的飓泄露,就会存在大的安全隐患。
发明内容
本发明的目的是克服以上现有技术不足,提供一种即能在铜键合丝热处理过程中有效利用H2光亮化热处理的特性,还能够保证热处理过程中H2不泄露,保证了H2使用过程中安全性的铜键合丝光亮化热处理保护装置。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的:
一种铜键合丝光亮化热处理的保护装置,包括有气室,气室上端设有与气室连通的排气管,气室的下端设有惰性气体进气嘴,惰性气体进气嘴上装有惰性气体进气管,其特征是:所述气室内腔由隔板将其分隔为左气室和右气室,在左气室的侧壁上和隔板上设有同轴的穿线孔,其中左气室上设有与左气室连通的排气管,右气室上设有与右气室连通的排气管,在右气室上还设有与右气室相连通的氢气进气管,位于右气室的下端装有惰性气体进气嘴,惰性气体进气嘴上装有惰性气体进气管。
左气室的侧壁上的穿线孔和隔板上的穿线孔处分别焊接有锥形漏斗,且锥形漏斗的长度小于惰性气体进气管至隔板之间的直线距离。
氢气进气管的长度为退火管长度的1/16~1/2,且在氢气进气管上设有均匀分布的小孔。
排气管内分别装有风扇。
所述惰性气体进气嘴为扇形结构,其中心与右气室上的排气管中心同轴。
本发明具有以下优点:
本发明避免了热处理过程中易燃易爆气体H2的外泄,消除了安全隐患,并且能够起到铜键合丝的光亮化热处理效果,为高品质的铜键合丝材料提供了设备保障。
附图说明
图1是本发明的结构示意图;
图2是图1的左视图;
图3是图1中氢气进气管的结构示意图;
图4是装配示意图。
具体实施方式
实施例:如图所示的于铜键合丝热处理过程中的保护装置,包括有气室10,气室10内腔由隔板14将其分隔为左气室8和右气室7,其中左气室8上设有与左气室8连通的排气管9,右气室7上设有与右气室7连通的排气管1,在右气室7上还设有与右气室7相连通的氢气进气管4,右气室7的下端装有惰性气体进气嘴15,惰性气体进气嘴15为扇形结构,其中心与右气室7上的排气管1中心同轴,这样保证了能够形成良好的气屏,有效的防止气体外泄或进入左气室8。惰性气体进气嘴15上装有惰性气体进气管17。位于左气室8的侧壁上和隔板14上设有同轴的穿线孔11、13,左气室8的侧壁上的穿线孔11和隔板14上的穿线孔13处分别焊接有锥形漏斗12、16,这样就保证了热处理过程中穿线顺畅,该装置安装在热处理设备的退火管6两端,并用高温耐火材料5密封连接处。且锥形漏斗12、16的长度小于惰性气体进气管17至隔板14之间的直线距离。在排气管1、9内分别装有风扇2、3,可使废气由排气管2、9处顺利排出。所述氢气进气管4的长度为退火管6长度的1/16~1/2,其位置不影响键合丝在热处理管中顺畅通过。且在氢气进气管4上设有均匀分布的小孔18。在保护装置安装过程中要保证保护装置上的13穿线孔与退火管中心同轴。
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