[发明专利]3-去乙酰基头孢呋辛酸(DCCF)合成新工艺无效
申请号: | 200810067780.6 | 申请日: | 2008-06-13 |
公开(公告)号: | CN101289457A | 公开(公告)日: | 2008-10-22 |
发明(设计)人: | 邓玉开;潘行远;杜穿 | 申请(专利权)人: | 河源市制药工程技术研究开发中心 |
主分类号: | C07D501/34 | 分类号: | C07D501/34;A61P31/04 |
代理公司: | 深圳市雄杰专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王雄杰 |
地址: | 517447广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 乙酰 头孢 辛酸 dccf 合成 新工艺 | ||
1、一种3-去乙酰基头孢呋辛酸(DCCF)合成新工艺,其特征在于所述合成3-去乙酰基头孢呋辛酸工艺中的主要合成配料由SMIA酰氯与3-去乙酰基头孢烷酸构成:
2、根据权利要求1所述的3-去乙酰基头孢呋辛酸(DCCF)合成新工艺,其特征在于所述3-去乙酰基头孢烷酸与SMIA酰氯加入量摩尔比例不超过5∶1。
3、根据权利要求2所述的3-去乙酰基头孢呋辛酸(DCCF)合成新工艺,其所述工艺特征在于:
a.将五氯化磷溶于溶剂充分搅拌后降温至10℃~-60℃;
b.继续加入呋喃铵盐,将温度控制在0℃~-40℃;
c.充分搅拌反应上述溶液后,冰水洗涤,得到有机相SMIA酰氯并保留于15℃~-20℃的温度中;
d.将3-去乙酰基头孢烷酸加入足量纯水后加入碱性溶液或溶剂调节PH值至7.5-8.5;
e.3-去乙酰基头孢烷酸溶解完全后,流加入上述步骤c制备好的SMIA酰氯有机相;
f. 3-去乙酰基头孢烷酸(D-7-ACA)与SMIA酰氯反应过程控制溶液温度-5~30℃,用碱性溶液或碱性溶剂控制PH:
6.0-8.5并且不断搅拌,充分反应后静置分层,保留水相;
g.取分层后有机相用继续用纯水萃取,保留萃取后水相;
h.合并所有水相后,流加入酸性溶液或溶剂(如盐酸、硫酸、硝酸等)调节PH值至1~3结晶;
i.结晶完毕后降温至5℃以下,充分搅拌后,离心;离心后的产物用冰水洗涤、甩干后,置于30 70℃真空中干燥。
4、根据权利要求3所述的3-去乙酰基头孢呋辛酸(DCCF)合成新工艺,其特征在于所述合成工艺的步骤a中溶剂可以取二氯甲烷或二氯乙烷、三氯甲烷等可以充分溶解五氯化磷的溶剂。
5、根据权利要求4所述的3-去乙酰基头孢呋辛酸(DCCF)合成新工艺,其特征在于所述合成工艺的步骤a在搅拌过程中还可以加入DMA、DMF等可辅助呋喃铵盐溶解的溶剂。
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