[发明专利]曝光影像偏差的校正方法和成像装置有效
申请号: | 200810067797.1 | 申请日: | 2008-06-17 |
公开(公告)号: | CN101609284A | 公开(公告)日: | 2009-12-23 |
发明(设计)人: | 孙海翔;高云峰 | 申请(专利权)人: | 深圳市大族激光科技股份有限公司 |
主分类号: | G03G15/04 | 分类号: | G03G15/04;G03G15/00;B41J2/435 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518057广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 影像 偏差 校正 方法 成像 装置 | ||
1.一种曝光影像偏差的校正方法,其特征在于,包括:
根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正所述曝 光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息,具体是:根 据多个联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝 光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息,所述曝光控 制信息与各曝光模块一一对应;
按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行 曝光;
按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行 曝光具体是:按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块在所述成 像面上进行曝光;
所述生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的 曝光控制信息包括:生成能够校正曝光模块在所述成像面的第一成像 方向或第二成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息;
所述根据多个联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成 能够校正曝光模块在所述成像面的第一成像方向上的曝光位置偏差 的曝光控制信息具体包括:
根据多个联动的曝光模块的实际曝光位置,获得各曝光模块与所 述成像面的第一成像方向上的相邻曝光模块间的实际距离,并在所获 得的实际距离中确定最大距离;
根据所述实际距离,将待成像图像在所述第一成像方向上进行分 像,使各曝光模块对应的分像子图像在所述第一成像方向上的尺寸, 与该曝光模块和所述第一成像方向上的相邻曝光模块间的实际距离 相一致;
对各曝光模块对应的分像子图像,分别判断其在所述第一成像方 向上的尺寸是否达到所述最大距离,若是,则以该分像子图像作为相 应曝光模块的曝光控制信息;若否,则相对于所述第一成像方向,在 该分像子图像的后面填补空白区域,使填补后的分像子图像在所述第 一成像方向上的尺寸与所述最大距离相一致,以该填补后的分像子图 像作为相应曝光模块的曝光控制信息。
2.一种曝光影像偏差的校正方法,其特征在于,包括:
根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正所述曝 光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息,具体是:根 据多个联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝 光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息,所述曝光控 制信息与各曝光模块一一对应;
按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行 曝光;
按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行 曝光具体是:按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块在所述成 像面上进行曝光;
所述生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的 曝光控制信息包括:生成能够校正曝光模块在所述成像面的第一成像 方向或第二成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息;
所述根据多个联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成 能够校正曝光模块在所述成像面的第二成像方向上的曝光位置偏差 的曝光控制信息具体包括:
根据多个联动的曝光模块的实际曝光位置,获得各曝光模块在所 述成像面的第二成像方向上,相对于在第二成像方向上实际曝光位置 偏移最远的曝光模块的实际距离,并在所获得的实际距离中确定最大 距离;
相对于所述第二成像方向,在曝光模块各自在第一成像方向上的 分像子图像的前面填补第一空白区域,所填补的第一空白区域在所述 第二成像方向上的尺寸与该曝光模块在所述第二成像方向上,相对于 所述偏移最远的曝光模块的实际距离相一致;
相对于所述第二成像方向,在曝光模块各自经填补第一空白区域 后的分像子图像的后面填补第二空白区域,使填补后的分像子图像在 所述第二成像方向上的尺寸,和未经填补第一空白区域前分像子图像 在第二成像方向上的尺寸与所述最大距离之和相一致,以该填补第二 空白区域后的分像子图像作为相应曝光模块的曝光控制信息。
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