[发明专利]曝光影像偏差的校正方法和成像装置有效
申请号: | 200810067797.1 | 申请日: | 2008-06-17 |
公开(公告)号: | CN101609284A | 公开(公告)日: | 2009-12-23 |
发明(设计)人: | 孙海翔;高云峰 | 申请(专利权)人: | 深圳市大族激光科技股份有限公司 |
主分类号: | G03G15/04 | 分类号: | G03G15/04;G03G15/00;B41J2/435 |
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地址: | 518057广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 影像 偏差 校正 方法 成像 装置 | ||
技术领域
本发明涉及曝光影像偏差的校正方法和成像装置。
背景技术
在计算机直接制版(CTP,Computer To Plate)系统中,制版设备一般采 用计算机控制的激光扫描或阵列式曝光成像。
目前,扫描式曝光技术通常采用激光器作为光源,曝光装置中包括若干个 激光成像器件(通常为16个至128个)。由于加工及装配的限制及系统的误差 等原因,不能完全保证所有的曝光装置发出的光束达到设计初的理想位置,会 出现曝光影像的偏移,这样可能会在成像后的图像中出现条纹状甚至扭曲的缺 陷,严重影响成像质量。
美国专利US005717451公开了一种成像方法及图像记录装置,该装置包 含了一个位置检测装置和一个位置校正电路,所述位置检测装置同时对所有曝 光影像的X及Y方向的位置进行检测,然后通过所述位置校正电路对成像系 统进行校正。
发明内容
本发明实施例提供曝光影像偏差的校正方法和成像装置,能够实现对曝光 影像偏差的自动校正。
一种曝光影像偏差的校正方法,包括:
根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正所述曝光模块在 所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息;
按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光。
一种成像装置,包括成像面和用于对所述成像面进行曝光的多个联动的曝 光模块;所述成像装置还包括控制模块,用于根据所述多个曝光模块在所述成 像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏 差的曝光控制信息;以及按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块在所述 成像面上进行曝光。
在本发明实施例中,根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够 校正曝光模块在成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息,并根据该信息控制 曝光模块的曝光,本发明实施例只需要通过软件补偿的方式即可以对曝光模块 的曝光位置偏差进行自动校正,而不需要对曝光模块的机械或硬件电路做任何 改动。
附图说明
图1是本发明成像装置实施例一的结构图;
图2是本发明成像装置实施例二的立体结构结构的示意图;
图3是本发明成像装置实施例二的平面示意图;
图4是本发明实施例中示出的理想情况下没有曝光位置偏差时的曝光影像 示意图和具有曝光位置偏差时的曝光影像示意图;
图5、图6是本发明方法实施例二的示意图;
图7、图8是本发明方法实施例三的示意图;
图9、图10是本发明方法实施例四的示意图。
具体实施方式
以下对本发明实施例提供的曝光影像偏差的校正方法和成像装置的推荐 实施例进行详细说明。
本发明成像装置实施例一:本实施例给出本发明成像装置的基本结构。参 考图1,本实施例的成像装置包括成像面110和用于对成像面110进行曝光的多 个联动的曝光模块120。该成像装置还包括控制模块130,用于根据所述多个联 动的曝光模块120在成像面110上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块120 在成像面110上的曝光位置偏差的曝光控制信息;以及按照所述曝光控制信息, 控制相应的曝光模块120在成像面110上进行曝光。
其中,所述曝光模块中包含成像器件,所述成像器件的类型可以是激光成 像器件、数字光处理(DLP)成像器件、光栅亮度阀(GLV)成像器件或液晶 显示(LCD)成像器件。
以下以激光成像器件为例,对本发明成像装置实施例二进行说明。
参考图2和图3,本实施例的成像装置包括:
覆有感光材料的成像面202和承载成像面202移动的第一运动机构(在本 实施例中具体是圆柱体成像鼓201),成像面202置于圆柱体成像鼓201外表 面上;用于驱动圆柱体成像鼓201带动成像面202沿其轴线203旋转(图中以 Y表示)的电机,以及用于获取圆柱体成像鼓201的旋转角度的旋转编码器。
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