[发明专利]多羟基硅氧烷光电导体有效

专利信息
申请号: 200810074225.6 申请日: 2008-02-13
公开(公告)号: CN101246319A 公开(公告)日: 2008-08-20
发明(设计)人: K·-T·丁;J·F·亚努斯;R·K·克兰达尔;E·J·小雷迪根 申请(专利权)人: 施乐公司
主分类号: G03G5/06 分类号: G03G5/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 段晓玲;韦欣华
地址: 美国康*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 羟基 硅氧烷 光电 导体
【说明书】:

                       技术领域

[0001]本公开内容一般性涉及层叠的成像元件、感光体、光电导体 等。更具体地,本公开内容涉及多层柔性带状成像元件或器件。

                       背景技术

[0002]本公开内容一般性涉及层叠的成像元件、感光体、光电导体 等。更具体地,本公开内容涉及包括例如基材的任选的载体介质、光产 生层、和电荷输送层、任选的粘合剂层、任选的空穴阻挡或底涂层、和 顶部保护外涂层(TOC)的多层柔性带状成像元件或器件,所述电荷输送 层包括多个电荷输送层,例如第一电荷输送层和第二电荷输送层,所述 顶部保护外涂层含有羟基官能化硅氧烷改性的聚合物。在实施方案中, 外涂层包括例如交联树脂、电荷输送组分、催化剂,并且其中交联树脂 由具有羟基/羧基作为交联部位的多元醇/聚酯、和羟基官能化硅氧烷改 性的聚合物组成,该聚合物为例如SILCLEANTM 3700R,购自BYK Chemi,据信其为羟基官能化硅氧烷改性的聚丙烯酸酯,并且该羟基官 能化硅氧烷以各种量存在,例如约0.1到约10wt%,约0.1到约2wt%, 并且与没有羟基官能化硅氧烷改性的聚丙烯酸酯的约88的接触角相比, 该光电导体具有例如约103的理想的接触角。一些优点与公开的光电导 体有关,例如抗裂性、硬度和韧性,包括抗划性;低表面能特性,该特 性使得可以进行定量调色剂转印和简化光电导体清洗;基本避免TOC 下的各层中引发的裂纹蔓延到顶层,并因此使打印缺陷减到最小;和其 中在实施方案中,交联部位将可以使含硅氧烷层增强。

[0003]在实施方案中,在此说明的感光体具有优异的耐磨性、寿命 延长、消除元件的一层或多层表面上的成像元件划痕或使其最少化,该 划痕可能导致不希望有的打印故障,其中例如在产生的最终印刷物上可 见划痕。另外,在实施方案中,在此公开的成像元件具有优异的和在许 多情况下低的Vr(剩余电势),并且在适当时可以基本防止Vr周期性增 加;高灵敏性;低的可接受的图像残影特性;低的背景噪声和/或最小的 电荷不足色斑(charge deficient spots,CDS);和理想的调色剂可清洗性。 在实施方案中,至少一种表示例如1种、1到约10种,2到约7种,2 到约4种,2种等。

[0004]进一步公开的是使用在此说明的光响应或光电导器件进行成 像和打印的方法。这些方法通常包括在成像元件上形成静电潜像,随后 用由例如热塑性树脂、色料(例如颜料)、电荷添加剂和表面添加剂组成 的调色剂组合物显影图像,参考US 4,560,635;4,298,697和4,338,390, 随后将该图像转印到合适的基材,并将图像永久地定影在其上。在其中 器件以打印模式使用的那些环境中,成像方法包括相同的操作,除了可 以用激光器件或图像棒完成曝光。

                       发明内容

[0005]公开了成像元件,其具有许多在此说明的优点,例如延长的 使用寿命,例如超过约3,000,000个成像周期;优异的电子特性;稳定 的电气性能;图像残影低;低背景噪声和/或最小的电荷不足色斑(CDS); 当暴露于某些溶剂的蒸汽时,抵抗电荷输送层开裂;优异的表面特性; 耐磨性改善;与许多调色剂组合物兼容;避免成像元件划痕或使其最小 特性;稳定的Vr(剩余电势),其在经过由已知PIDCs(光诱导放电曲线) 的产生说明的多个成像周期之后基本平坦或无变化;剩余电势中的周期 增加最少;可接受的背景电压,也即例如使光电导体暴露于光源之后, 最小的背景电压为约2.6毫秒;快速的PIDCs和低的剩余电压等。

[0006]因此,在此公开如下实施方案。

[0007]方案1.一种成像元件,包括任选的支撑基材、光产生层、和 至少一层包含至少一种电荷输送组分的电荷输送层、和与所述电荷输送 层接触并相邻的外涂层,并且该外涂层包含丙烯酸化多元醇、聚亚烷基 二醇、交联剂、羟基官能化的硅氧烷和电荷输送组分。

[0008]方案2.根据方案1的成像元件,其中存在所述支撑基材,所 述外涂层进一步包含催化剂,并且所述聚亚烷基二醇为聚丙二醇。

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