[发明专利]二烯聚合物和制备该二烯聚合物的方法无效
申请号: | 200810081505.X | 申请日: | 2008-02-26 |
公开(公告)号: | CN101255214A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
发明(设计)人: | 小坂田耕太郎;竹内大介;朴世训;植村真;藤田正行 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社;国立大学法人东京工业大学 |
主分类号: | C08F136/20 | 分类号: | C08F136/20;C08F4/70 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 周铁;林森 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚合物 制备 方法 | ||
1.一种包含由下式(1)表示的单元的聚合物:
其中Y1为芳基,Y2为芳基、氢原子、卤素原子、烷基、芳烷基、甲硅烷基、甲硅烷氧基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基、氨基、酰胺基团、酰亚胺基团或者烃硫基;Y1和Y2可以彼此键合成环;A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8、A9和A10彼此独立地为氢原子、卤素原子、烷基、芳烷基、芳基、甲硅烷基、甲硅烷氧基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基、氨基、酰胺基团、酰亚胺基团或烃硫基;m为0或1;和n为1到20的整数。
2.根据权利要求1的聚合物,其中所述由式(1)表示的单元包含由下式(2)表示的单元,其A7和A8之间的相对构型为反式:
其中式(2)中包含的所有符号与式(1)中定义的那些相同。
3.根据权利要求1的聚合物,其中所述聚合物为具有大于25摩尔%苏型双全同立构三单元组的聚合物,由式(1)表示的单元总量为100摩尔%。
4.根据权利要求1的聚合物,其中所述聚合物为具有大于25%赤型双全同立构三单元组的聚合物,由式(1)表示的单元总量为100摩尔%。
5.根据权利要求1的聚合物,其中所述聚合物为具有大于25%苏型双间同立构三单元组的聚合物,由式(1)表示的单元总量为100摩尔%。
6.根据权利要求1的聚合物,其中所述聚合物为具有大于25%赤型双间同立构三单元组的聚合物,由式(1)表示的单元总量为100摩尔%。
7.一种制备具有由下式(1)表示的重复单元的聚合物的方法,该方法包括聚合由下式(3)表示的化合物的步骤:
其中Y1为芳基,Y2为芳基、氢原子、卤素原子、烷基、芳烷基、甲硅烷基、甲硅烷氧基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基、氨基、酰胺基团、酰亚胺基团或者烃硫基;Y1和Y2可以彼此键合成环;A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8、A9和A10彼此独立地为氢原子、卤素原子、烷基、芳烷基、芳基、甲硅烷基、甲硅烷氧基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基、氨基、酰胺基团、酰亚胺基团或烃硫基;Z为-(CH2)n-1-(CA9A10)mH基团;式(3)右上方显示的两条波形线表示它们构型中的变化;m为0或1,和n为1至20的整数。
8.根据权利要求7的制备聚合物的方法,其中在通过使过渡金属化合物与有机铝化合物和/或硼化合物接触形成的聚合催化剂存在下进行聚合。
9.根据权利要求8的制备聚合物的方法,其中所述过渡金属化合物为由下式[I]表示的化合物:
其中M2为元素周期表10族的过渡金属原子;R3和R4彼此独立地为氢原子、卤素原子、烷基、芳烷基、芳基、甲硅烷基、甲硅烷氧基、烷氧基、芳烷氧基或芳氧基;R5和R6彼此独立地为具有1到30个碳原子的烃基;R7和R8彼此独立地为氢原子或具有1到20个碳原子的烃基,并且R7和R8可以彼此键合成环。
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