[发明专利]修正光学邻近效应的方法

权利要求书

1.一种修正光学邻近效应的方法，包括：

制造具有测试图案的测试光罩；

使用该测试光罩，在晶圆上形成晶圆图案；

测量形成在晶圆上的这些晶圆图案的线宽；

使用该所测量的线宽来执行模型校正；

使用该模型校正来编写修正秘诀；

将该晶圆整个面积分割成多数个模板；

在该多数个模板中的一个模板上执行光学邻近修正并验证于执行光学 邻近修正期间，是否适当地执行在相异模板上所完成的光学邻近修正；

合并在通过该验证的多数个模板上的数据并编写最终数据；以及

使用该最终数据来制造光罩。

2.如权利要求1的方法，其中该晶圆整个面积的分割包括：

将该晶圆整个面积分割成具有固定尺寸的多数个模板；以及

指定多数个模板的每个用于该光学邻近修正的执行。

3.如权利要求2的方法，其中将该多数个模板分割成多数个多边形。

4.如权利要求1的方法，其中反复该邻近修正的执行及该光学邻近修正 的验证，直到由该验证所产生的误差值在误差容许范围内。

5.一种修正光学邻近效应的方法，包括：

制造具有测试图案的测试光罩；

使用该测试光罩，在晶圆上形成晶圆图案；

测量形成在晶圆上的这些晶圆图案的线宽；

使用该所测量的线宽来执行模型校正；

使用该模型校正来编写修正秘诀；

将该晶圆整个面积分割成多数个模板；

在该多数个模板中的一个模板上执行光学邻近修正并验证以判定于执 行光学邻近修正期间，是否适当地执行光学邻近修正；

在作为验证的结果而产生误差的模板上重新执行光学邻近修正，并重新 验证以判定是否适当地重新执行光学邻近修正；

合并在通过这些验证及重新验证的多数个模板上的数据；

使用该合并数据来编写最终数据；以及

使用该最终数据来制造光罩。

6.如权利要求5的方法，其中该重新执行光学邻近修正及重新验证包括：

产生误差标帜以选取作为验证的结果而产生误差的多数个模板；

重新执行该光学邻近修正并在该误差标帜所选取的模板上重新验证。

7.如权利要求6的方法，于重新验证步骤后还包括：

指定任一层阶数以选取作为验证的结果而产生误差的该多数个模板；

遮挡于其上适当地完成光学邻近修正的重新执行的该多数个模板，以及

实施该光学邻近修正的重新执行并在由指定的层阶数所选取的模板上 实施重新验证。

8.如权利要求5的方法，其中反复该光学邻近修正的重新执行及重新验 证，直到误差在误差容许范围内。

9.如权利要求5的方法，其中使用以多边形为基准的方法来执行光学邻 近修正。

10.如权利要求5的方法，其中使用以格子为基准的方法或多重分割来 重新执行光学邻近修正。