[发明专利]半导体发光器件无效
申请号: | 200810086779.8 | 申请日: | 2005-01-05 |
公开(公告)号: | CN101246944A | 公开(公告)日: | 2008-08-20 |
发明(设计)人: | 丸田秀昭 | 申请(专利权)人: | 罗姆股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱进桂 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 发光 器件 | ||
本申请系申请号为CN 200580001835.8,申请日为2005.1.5,申请人为罗姆股份有限公司,并且题为《半导体发光器件》的分案申请。上述在先申请为PCT申请,国际申请号为PCT/JP2005/000044,并要求优先权,所述优先权的—
在先申请国 在先申请日 在先申请号
日本 2004.1.7 JP 2004-002377
该在先申请的国际公开号为WO 2005/067067,国际公开日为2005.7.21。
技术领域
本发明涉及具有高发光效率的半导体发光器件。本发明特别涉及一种半导体发光器件,其中重要的在于从它的侧面发出光。
背景技术
传统的半导体发光器件有如图1中所示那样被构成。图1为由以AlxGayIn1-x-yN为代表的III族氮化物半导体制成的GaN基半导体发光器件的一个例子,其中0≤x≤1,0≤y≤1,且0≤x+y≤1。在图1中,参考标记81表示p侧焊接区;82表示p型电极;83表示p-GaN半导体层;85表示InGaN活性层;86表示n-GaN半导体层;87表示蓝宝石衬底;88表示n侧焊接区;89表示n型电极。
形成发光元件的材料,比如包含以AlxGayIn1-x-yN为代表的III族氮化物半导体材料的折射率相对而言比空气的折射率大,其中0≤x≤1,0≤y≤1,且0≤x+y≤1。例如,在图1中所示的GaN基半导体发光器件中,为了使InGaN活性层85中产生的光能够通过p型电极82进入空气中,必然要求它在p-GaN半导体层83中到空气中的入射角不超过全反射临界角。如果入射角大于全反射临界角,则入射光不能射出到空气中,从而光被全反射。
全反射光在半导体发光器件中传播。图2中示出传播的情形。图2为光在具有活性层的半导体发光器件中传播的一个例子。在图2中,为了说明光的传播,参考标记91表示半导体层;92表示活性层;93表示半导体层;94表示半导体发光器件的顶面;95表示半导体发光器件的底面;96表示点光源。
在活性层92中比如点光源96的位置处所产生的光,通过半导体层91,到达顶面94。当其入射角不超过全反射临界角时,光射出到空气中。当用n0表示半导体层91的折射率,并且认为空气的折射率为1时,用下式表示全反射临界角θ0:
θ0=sin-1(1/n0) (1)
当n0=2.8时,从公式(1)得出,θ0=21°。如果入射角θ小于21°,则光从顶面94出射到空气中。由下面的公式(2)给出从点光源96朝向半导体发光器件的顶面94传播的光,或者从点光源96朝向半导体发光器件的底面95传播、然后再在底面95上反射的光,从半导体发光器件的顶面94射出到空气中的比率η:
η=(1-cosθ0) (2)
当公式(2)中θ0=21°时,η=7%。当半导体发光器件为矩形的平行六面体时,出射到空气中的光线与朝向所有方向传播的光线的比率为:3η=21%。从而,使79%的光线被限制在半导体发光器件中。
不过,当入射角θ为21°或更大时,光发生全反射,并且在半导体层91和93中再次传播。对于活性层92中产生的光,半导体层91和93是透明的,不过,活性层92具有与所产生的发射光相应的带隙。从而,层92作为吸收体。当光在半导体层91和93中传播时,光也通过活性层92传播。因而,只要光通过活性层92,则传播的光就会由于吸收损耗而受到衰减。
当入射角为21°或更大时,到达半导体发光器件侧面的光再次受到全反射。从而,光被限制在半导体发光器件中。如果入射角小于21°,则光射出到空气中。如上所述,由于多次通过活性层92的光被衰减,发射光的强度也会比较小。
如上所述,活性层中所产生的光因全反射的缘故而被限制在其内部的比率较大,从侧面射出的光也受到衰减。活性层中产生的光能够到达外部的比率也称作外部量子效率。为此,传统半导体发光器件的外部量子效率较差。
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