[发明专利]液滴吐出头、液滴吐出装置以及电极基板的制造方法无效
申请号: | 200810088821.X | 申请日: | 2008-03-28 |
公开(公告)号: | CN101274519A | 公开(公告)日: | 2008-10-01 |
发明(设计)人: | 松野靖史;藤沢里志 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B41J2/14 | 分类号: | B41J2/14;B41J2/045;B41J2/16 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 余刚;尚志峰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 吐出 装置 以及 电极 制造 方法 | ||
1.一种液滴吐出头,其特征在于,包括:
喷嘴基板,形成有多个用于吐出液滴的喷嘴孔;
腔基板,形成有多个吐出室,各个所述吐出室将其底壁作为用作电极的振动板,从所述喷嘴孔吐出所述液滴;以及
电极基板,包括:多个单个电极,形成于第一槽内且与所述振动板隔着间隔地相对,所述多个单个电极用于驱动各个所述振动板;驱动器IC,用于控制所述多个单个电极的驱动;以及输入配线,形成于第二槽内且用于从外部输入所述驱动器IC驱动用的电力或信号,
其中,所述电极基板的所述第二槽形成得比所述第一槽深,所述输入配线的导体厚度厚于所述单个电极的厚度。
2.根据权利要求1所述的液滴吐出头,其特征在于,
所述单个电极的顶面与输入配线的导体顶面处于同一平面。
3.根据权利要求1或2所述的液滴吐出头,其特征在于,
所述输入配线由金属材料形成。
4.根据权利要求3所述的液滴吐出头,其特征在于,
所述输入配线包括:第一导体,与所述第二槽内的底面相接触;以及第二导体,形成在所述第一导体上,所述第二导体的厚度厚于所述第一导体的厚度,所述第一导体的线宽宽于所述第二导体的线宽。
5.根据权利要求4所述的液滴吐出头,其特征在于,
所述电极基板由玻璃形成,
所述输入配线的所述第一导体由铬或钛形成。
6.根据权利要求4所述的液滴吐出头,其特征在于,
所述第二导体由铬、钛、金、银、铜、铝、或至少以上两种金属的层叠形成。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的液滴吐出头,其特征在于,所述单个电极由ITO形成。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的液滴吐出头,其特征在于,
所述液滴吐出头在所述喷嘴基板与所述腔基板之间具备贮存基板,所述贮存基板包括:共通液滴室,用于存储所述液滴并供给所述吐出室;贯通孔,用于从所述共通液滴室向所述吐出室移送所述液滴;以及喷嘴连通孔,用于从所述吐出室向所述喷嘴孔移送所述液滴。
9.一种液滴吐出装置,其特征在于,具有权利要求1~8中任一项所述的液滴吐出头。
10.一种电极基板的制造方法,其特征在于,包括:
第一蚀刻步骤,在玻璃基板上适用蚀刻掩模,蚀刻用于成膜输入配线的槽直至其中途的深度;
第二蚀刻步骤,在所述玻璃基板上适用蚀刻掩模,蚀刻用于形成单个电极的槽和用于形成所述输入配线的槽直至用于形成单个电极的槽和用于形成所述输入配线的槽的最终深度;
输入配线形成步骤,在用于形成所述输入配线的槽中成膜由金属材料构成的输入配线;以及
单个电极形成步骤,在用于形成所述单个电极的槽中成膜由ITO构成的单个电极。
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