[发明专利]铭版结构及其制造方法

权利要求书

1、一种铭版的制造方法，包括下列步骤：

提供一透光基板，该透光基板具有一第一表面与一第二表面，且该第一表面具有至少一组图案；

在该透光基板的该第一表面上形成至少一色层；

于该色层上形成至少一共形反射层；以及

于该共形反射层上形成至少一第一保护层。

2、如权利要求1所述的铭版的制造方法，其中该第一保护层为共形膜层，且在形成该第一保护层之后，更包括在该第一保护层上形成至少一平坦层。

3、如权利要求1所述的铭版的制造方法，其中形成该平坦层的方法包括油墨喷洒制程。

4、如权利要求1所述的铭版的制造方法，更包括于该透光基板的该第二表面上形成一第二保护层。

5、如权利要求1所述的铭版的制造方法，更包括于该第二保护层上形成一透明膜。

6、如权利要求1所述的铭版的制造方法，其中该透光基板的形成方法包括下列步骤：

提供一底板；

于该底板上形成一图案化光阻层，其中该图案化光阻层具有至少一第一图案；

于该图案化光阻层上形成一金属层；

将该金属层从该底板上剥离，以将该第一图案转印至该金属层；以及

利用该金属层为母模，以透光塑料进行射出成型，以形成该透光基板。

7、如权利要求6所述的铭版的制造方法，其中在该底板上形成该图案化光阻层的方法包括曝光及显影制程，且该曝光制程系以波长介于0.7微米至0.75微米之间的激光作为曝光光源。

8、如权利要求6所述的铭版的制造方法，其中在将该金属层从该底板上剥离之后以及利用该金属层为母膜进行射出成型之前，更包括对该金属层进行微影蚀刻制程。

9、如权利要求1所述的铭版的制造方法，其中形成该些色层的方法包括丝网印刷与胶版印刷至少其中之一。

10、如权利要求1所述的铭版的制造方法，其中形成该共形反射层的方法包括蒸镀及溅镀其中之一。

11、一种铭版结构，包括：

一透光基板，具有一第一表面与一第二表面，其中该第一表面具有至少一组图案；

至少一色层，配置于该透光基板的该第一表面上；

至少一共形反射层，共形地配置于该色层上；以及

至少一第一保护层，配置于该共形反射层上。

12、如权利要求11所述的铭版结构，其中该第一保护层为共形膜层，且该铭版结构更包括一平坦层，配置于该第一保护层上。

13、如权利要求12所述的铭版结构，其中该平坦层为油墨层。

14、如权利要求11所述的铭版结构，更包括至少一第二保护层，配置于该透光基板的该第二表面上。

15、如权利要求14所述的铭版结构，其中该第二保护层的材质为硬化胶。

16、如权利要求14所述的铭版结构，更包括至少一透明膜，配置于该第二保护层上。

17、如权利要求11所述的铭版结构，其中该共形反射层的厚度为55纳米。

18、如权利要求11所述的铭版结构，其中该第一保护层的材质为硬化胶。

19、如权利要求11所述的铭版结构，其中该些色层包括丝网印刷层及胶版印刷层至少其中之一。

20、如权利要求11所述的铭版结构，其中该组图案包括文字、数字、符号及图像至少其中之一。