[发明专利]光刻胶图案的修补方法无效
申请号: | 200810090300.8 | 申请日: | 2008-04-21 |
公开(公告)号: | CN101566788A | 公开(公告)日: | 2009-10-28 |
发明(设计)人: | 简永杰;江鸿儒 | 申请(专利权)人: | 东捷科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈 红 |
地址: | 台湾省台南*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 图案 修补 方法 | ||
1、一种光刻胶图案的修补方法,其特征在于,至少包括:
形成一材料层于一衬底上;
形成一光刻胶图案于该材料层的表面的一第一部分上,其中该光刻胶图案至少包括一缺陷区暴露出该材料层的该表面的一第二部分;以及
进行一修补步骤,以形成一光刻胶层设置在该光刻胶图案的该缺陷区中,并覆盖该材料层的该表面的该第二部分。
2、根据权利要求1所述的光刻胶图案的修补方法,其特征在于,该光刻胶图案与该光刻胶层的材料均为正型光刻胶。
3、根据权利要求1所述的光刻胶图案的修补方法,其特征在于,该光刻胶图案与该光刻胶层的材料均为负型光刻胶。
4、根据权利要求1所述的光刻胶图案的修补方法,其特征在于,该光刻胶图案与该光刻胶层由相同材料所组成。
5、根据权利要求1所述的光刻胶图案的修补方法,其特征在于,该光刻胶图案与该光刻胶层由不同材料所组成。
6、根据权利要求1所述的光刻胶图案的修补方法,其特征在于,形成该光刻胶图案的步骤至少包括:
涂布另一光刻胶层覆盖于该材料层的该表面上;
对该另一光刻胶层进行一图案化步骤,以形成该光刻胶图案;以及
进行一烘烤步骤。
7、根据权利要求1所述的光刻胶图案的修补方法,其特征在于,形成该光刻胶图案的步骤与进行该修补步骤之间,还至少包括对该光刻胶图案进行一检测步骤,而检测出该缺陷区。
8、根据权利要求1所述的光刻胶图案的修补方法,其特征在于,该修补步骤至少包括将一光刻胶液填入该缺陷区中。
9、根据权利要求8所述的光刻胶图案的修补方法,其特征在于,将该光刻胶液填入该缺陷区中的步骤利用喷墨法、微细针沾附法、细针导流法、显微毛细管注射法或液体精密定量吐出法。
10、根据权利要求8所述的光刻胶图案的修补方法,其特征在于,于将该光刻胶液填入该缺陷区中的步骤后,该修补步骤还至少包括:
利用激光修饰该光刻胶图案,以移除该光刻胶图案外的该光刻胶液的多余部分;以及
进行一烘烤步骤。
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