[发明专利]光刻胶图案的修补方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光刻胶图案的修补方法，且特别涉及一种可实时进行的光刻胶图案的修补方法。

背景技术

目前，在液晶显示器的薄膜晶体管多组衬底的制作过程中，通常先沉积材料薄膜后，再利用光刻、蚀刻等工艺来制作多组图形。在光刻工艺中，先涂布光刻胶层于材料薄膜上，再通过光掩膜对光刻胶层进行曝光步骤以将光掩膜图案转移至光刻胶层，接着进行显影以移除部分的光刻胶层而将光掩膜图案转移至光刻胶层，再对剩余的光刻胶层进行烘烤而完成光刻胶图案的制作。

完成光刻工艺后，均会利用检测装置来检查光刻胶图案是否有缺陷，以决定是要进行后续的蚀刻工艺或重新设置光刻胶图案。当检测出光刻胶图案有缺陷时，检测装置会记录缺陷的位置与数量。若检测的结果为这些缺陷所在的位置或数量低于预定的制作规格时，会继续以光刻胶图案作为掩膜进行材料薄膜的蚀刻，再以去光刻胶液剥离剩余的光刻胶，而完成材料薄膜的多组图形的定义。由于当光刻胶图案具有断线缺陷时，若材料薄膜是用以制作金属线路时，会使所形成的金属线路呈现断路，因此于多组图形完成后需要进行修补。现阶段的薄膜晶体管多组衬底的修补方式是在断线以外的区域另外焊接金属导线等方式来补救断线的金属线路。

另一方面，若检测的结果为这些缺陷所在的位置或数量高于预定的制作规格时，则进行返工的程序，而利用去光刻胶液来将所形成的光刻胶图案予以剥除，然后再重新进行光刻胶层的涂布、曝光、显影与烘烤等光刻胶图案的制作程序。

然而，在完成线路结构的蚀刻后，再焊接额外的金属线路的修补方式，一般需使用昂贵的仪器设备，也需要一些相关耗材，因此会大大地提高生产成本。此外，这样的修补方式也会耗费相当长的时间，导致生产效率不高。

发明内容

因此，本发明所要解决的技术问题在于提供一种光刻胶图案的修补方法，其可在光刻胶的图案化完成后，实时对有缺陷的光刻胶图案进行修补，这样一来可免除在利用光刻胶图案来进行线路结构的蚀刻后，需另外以焊接金属线路的方式来进行线路结构的修补的程序。因此，可省下焊接金属线路以进行修补的程序时所需的相关仪器与耗材的使用，而可大幅降低工艺成本，还可大幅缩短修补时间，而有效提高生产效率。

根据本发明的上述目的，提出一种光刻胶图案的修补方法，至少包括：形成一材料层于一衬底上；形成一光刻胶图案于材料层的表面的第一部分上，其中光刻胶图案至少包括一缺陷区暴露出前述材料层的表面的第二部分；以及进行一修补步骤，以形成一光刻胶层设置在光刻胶图案的缺陷区中，并覆盖前述材料层的表面的第二部分。

依照本发明一较佳实施例，上述的光刻胶图案与光刻胶层的材料均为正型光刻胶。

依照本发明的另一较佳实施例，上述的光刻胶图案与光刻胶层由相同材料所组成。

依照本发明的又一较佳实施例，上述的修补步骤至少包括将一光刻胶液填入缺陷区中。此外，于将光刻胶液填入缺陷区中的步骤后，前述的修补步骤还至少包括利用激光修饰光刻胶图案，以移除光刻胶图案外的光刻胶液的多余部分。

附图说明

图1A至图5B示出根据本发明一较佳实施例的一种光刻胶图案的修补方法的工艺图，其中图1A、图2A、图3A、图4A与图5A为俯视图，而图1B、图2B分别为图1A、图2A的剖面图，图3B、图4B与图5B分别为沿着图3A、图4A与图5A的AA剖面线所获得的剖面图。

图6A示出根据本发明一较佳实施例的一种材料层经图案化后的俯视图；以及

图6B示出根据本发明一较佳实施例的一种材料层经图案化后的剖面图。

【主要器件符号说明】

100：衬底          102：材料层

104：表面          106：光刻胶层

108：光刻胶图案    110：缺陷区

112：缺陷区        114：光刻胶液

116：光刻胶层      118：器件结构

具体实施方式

本发明公开一种光刻胶图案的修补方法。为了使本发明的叙述更加详尽与完备，可参照下列描述并结合附图图1A至图6B。