[发明专利]曝光装置有效
申请号: | 200810091206.4 | 申请日: | 2008-04-21 |
公开(公告)号: | CN101289024A | 公开(公告)日: | 2008-10-22 |
发明(设计)人: | 安田悟;藤本守;岩佐博司 | 申请(专利权)人: | 大日本网目版制造株式会社 |
主分类号: | B41J2/45 | 分类号: | B41J2/45 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 马少东;徐恕 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 | ||
1.一种曝光装置,用于对被曝光体进行曝光,其特征在于,具有:
保持体,用于保持被曝光体;
多个光源,能够同时射出曝光用光;
曝光头,在配置方向上以等间隔离散配置有上述多个光源,上述配置方向是沿着上述被曝光体的方向;
移动单元,使上述曝光头沿着上述被曝光体移动;
曝光数据输入单元,取得记录有对被曝光体的曝光内容的全部曝光数据;
各通道曝光数据生成单元,根据上述全部曝光数据,生成各通道曝光数据,上述各通道曝光数据记录有上述多个光源各自的曝光内容;
曝光控制单元,控制上述多个光源,以使上述多个光源按照上述各通道曝光数据的记录内容射出曝光用光;其中,
在上述多个光源全部处于发光状态的情况下,通过如下方式形成被曝光区域:生成上述各通道曝光数据,以便使用所有上述多个光源所射出的上述曝光用光来形成被曝光区域;通过上述移动单元,只在距离与上述多个光源的间隔大致一致的基准区间内移动上述曝光头,同时上述曝光控制单元根据上述各通道曝光数据,使上述多个光源射出曝光用光,
在上述多个光源的一部分处于不发光状态的情况下,通过如下方式形成上述被曝光区域:生成上述各通道曝光数据,以便以除了上述基准区间内以外,还在插补区间内移动曝光头,同时使用从上述多个光源中确定的处于发光状态的特定光源所射出的上述曝光用光的方式形成上述被曝光区域,其中,上述插补区间位于上述基准区间前后侧中的至少一侧,并与上述基准区间连续设置,且具有上述基准区间的自然数倍数的距离,上述特定光源是根据处于上述不发光状态的光源的存在位置来确定的;通过上述移动单元,在上述基准区间及上述插补区间内移动上述曝光头,同时上述曝光控制单元根据上述各通道曝光数据,使上述特定光源射出曝光用光。
2.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,
还具有不发光检测单元,该不发光检测单元用于检测上述多个光源处于不发光状态,
根据上述不发光检测单元的检测内容,确定上述曝光头的移动范围和使用于曝光的上述特定光源。
3.如权利要求1或2中所述的曝光装置,其特征在于,
在上述基准区间的前后侧设定有上述插补区间,
在上述多个光源中,处于不发光状态的光源均都是在上述配置方向上的配置顺序为奇数或偶数的光源的情况下,以只使用配置顺序的奇偶与上述处于不发光状态的光源相反的光源来进行曝光的方式,生成上述各通道曝光数据。
4.如权利要求1或2所述的曝光装置,其特征在于,
在上述基准区间的前后侧设定有上述插补区间,
在处于不发光状态的光源中同时存在配置顺序为奇数的光源和偶数的光源且任何光源都不相邻的情况下,生成上述各通道曝光数据,以便在上述插补区间内移动上述曝光头的期间内,通过与上述处于不发光状态的光源相邻的任一光源,对本应该由上述处于不发光状态的光源来进行曝光的区域进行曝光。
5.如权利要求1或2所述的曝光装置,其特征在于,
在上述基准区间的前后侧设定有上述插补区间,
在处于不发光状态的光源中同时存在配置顺序为奇数的光源和偶数的光源且任一两个光源相邻的情况下,生成上述各通道曝光数据,以便在上述插补区间内移动上述曝光头的期间内,通过与各自的上述处于不发光状态的光源相邻的处于发光状态的光源,对本应该由与处于上述不发光状态的相邻的光源来进行曝光的区域进行曝光。
6.如权利要求1或2所述的曝光装置,其特征在于,上述基准区间的后侧的上述插补区间的距离比上述基准区间的距离长。
7.如权利要求1或2中所述的曝光装置,其特征在于,
在上述基准区间的后侧设定有上述插补区间,在存在处于不发光状态的光源的情况下,生成上述各通道曝光数据,以便在上述插补区间内移动上述曝光头的期间内,通过与上述处于不发光状态的光源距离最近的处于发光状态的光源,对本应该由处于不发光状态的光源来进行曝光的区域进行曝光。
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