[发明专利]曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种离散地配置有多个激光光源的曝光装置中的曝光处理。

背景技术

作为对印版直接形成图案的CTP(Computer To Plate：计算机直接制版)，在曝光头(Exposure Head)(光源)中使用激光二极管(LD)的CTP装置已被公知。作为CTP装置的曝光方式，广泛采用通过多个激光二极管同时照射激光来进行曝光的多束(Multi beam)方式。

例如，一种螺旋(spiral)曝光方式的CTP装置已被公知(例如，参照专利文献1)，该CTP装置具有包括在一个方向上连续设置的多个激光二极管和使从上述多个激光二极管照射的激光成像在曝光位置的透镜的曝光头(多通道(multichannel)光学头)，而且以旋转设有印版的滚筒(印版滚筒)的状态使曝光头向滚筒的轴方向移动，同时从激光二极管照射激光，从而使印版的大致整个面曝光。

此外，如下一种CTP装置(例如，参照专利文献2)也被公知。即，具有以相等间隔离散地配置有多个激光二极管的曝光头，以旋转设有印版的滚筒(印版滚筒)的状态，使曝光头向滚筒的轴方向只移动相当于激光二极管的间隔的距离的同时，从各激光二极管直接向印版照射激光，从而同时并列地进行多个部分区域的曝光，最终使印版的大致整个面都曝光。

专利文献1：JP特开2000-43317号公报

专利文献2：JP特开2003-89180号公报

在专利文献1中公开了如下的技术：激光二极管分成前半部和后半部两个组，在属于前半部或后半部中的某一组的激光二极管因损坏而不发光(点亮)的情况下，只使用属于各自的后半部或前半部的激光二极管来进行曝光，从而，即使发生了损坏，直到更换激光二极管时为止，不需要停止装置也能够继续进行曝光。

然而，在该方式的情况下，有如下的问题：在分别属于前半部和后半部的激光二极管都不亮的情况时，不能进行曝光。

此外，该方式是针对于专利文献1中所公开的螺旋曝光方式的CTP装置的。对于如专利文献2中所公开的在离散地配置有多个激光二极管的CTP装置，由于曝光时各个激光二极管的移动范围被受限制，因此，例如利用前半部的激光二极管来曝光本来应该由激光二极管曝光的区域的专利文献1中所公开的方式不能适用。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而做出，提供一种离散地配置有多个激光二极管的CTP装置，即使因几个激光二极管的损坏等而发生不发光的状态，也能够继续使用的CTP装置。

为了解决上述问题，技术方案1的发明提供一种曝光装置，对被曝光体进行曝光，其特征在于，具有：保持体，用于保持被曝光体；多个光源，能够同时射出曝光用光；曝光头，在配置方向上以等间隔离散配置有上述多个光源，上述配置方向是沿着上述被曝光体的方向；移动单元，使上述曝光头沿着上述被曝光体移动；曝光数据输入单元，取得记录有对被曝光体的曝光内容的全部曝光数据；各通道曝光数据生成单元，根据上述全部曝光数据，生成各通道曝光数据，上述各通道曝光数据记录有上述多个光源各自的曝光内容；曝光控制单元，控制上述多个光源，以使上述多个光源按照上述各通道曝光数据的记录内容射出曝光用光；其中，在上述多个光源全部处于发光状态的情况下，通过如下方式形成被曝光区域：生成上述各通道曝光数据，以便使用所有上述多个光源所射出的上述曝光用光来形成被曝光区域；通过上述移动单元，只在距离与上述多个光源的间隔大致一致的基准区间内移动上述曝光头，同时上述曝光控制单元根据上述各通道曝光数据，使上述多个光源射出曝光用光，在上述多个光源的一部分处于不发光状态的情况下，通过如下方式形成上述被曝光区域：生成上述各通道曝光数据，以便以除了上述基准区间内以外，还在插补区间内移动曝光头，同时使用从上述多个光源中确定的处于发光状态的特定光源所射出的上述曝光用光的方式形成上述被曝光区域，其中，上述插补区间位于上述基准区间前后侧中的至少一侧，并与上述基准区间连续设置，且具有上述基准区间的自然数倍数的距离，上述特定光源是根据处于上述不发光状态的光源的存在位置来确定的；通过上述移动单元，在上述基准区间及上述插补区间内移动上述曝光头，同时上述曝光控制单元根据上述各通道曝光数据，使上述特定光源射出曝光用光。

技术方案2的发明如技术方案1所述的曝光装置，其特征在于，还具有不发光检测单元，该不发光检测单元用于检测上述多个光源处于不发光状态根据上述不发光检测单元的检测内容，确定上述曝光头的移动范围和使用于曝光的上述特定光源。