[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其具有喷嘴部件，该喷嘴部件向输送中的基板的上表面，从输送方向的上游侧朝向下游侧而沿倾斜方向喷出处理液，其特征在于，具有：

气体喷射装置，其向上述喷嘴部件喷射气体；

控制装置，其控制上述气体喷射装置在上述喷嘴部件的下方不存在基板时喷射上述气体。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

上述控制装置控制上述气体喷射装置，在从上述喷嘴部件开始喷出处理液起到满足使该处理液的喷出状态稳定的给定的稳定化条件为止的期间，喷射上述气体。

3.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述控制装置控制上述气体喷射装置只在被处理基板即将到达上述喷嘴部件下方的给定时间内喷射上述气体。

4.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述气体喷射装置从上述输送方向的上游侧向下游侧对上述喷嘴部件喷射上述气体。

5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

在上述喷嘴部件的上述输送方向上游侧设置有防止倒流装置，该防止倒流装置通过向基板的上表面喷射气体，防止基板上的处理液向上游侧流动，并且，该防止倒流装置，通过以能够对基板以及上述喷嘴部件双方喷射上述气体的方式构成，从而能够兼作上述气体喷射装置来使用。