[发明专利]立式热处理装置以及被处理基板移载方法有效

专利信息
申请号: 200810092365.6 申请日: 2008-04-24
公开(公告)号: CN101295628A 公开(公告)日: 2008-10-29
发明(设计)人: 荻原顺一 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/677;H01L21/687
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 刘春成
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 立式 热处理 装置 以及 处理 基板移载 方法
【权利要求书】:

1. 一种立式热处理装置,其特征在于,包括:

下部具有炉口的热处理炉;

密闭所述炉口的盖体;

设置在所述盖体上、通过环状支撑板沿上下方向以规定间隔保持 多个被处理基板的保持件;

使所述盖体升降从而将所述保持件搬入以及搬出所述热处理炉的 升降机构;

位于所述热处理炉的外部、以规定间隔收纳多个被处理基板的收 纳容器;和

移载机构,其具有以规定间隔配置、用于载置被处理基板的多个 移载板,并且在所述收纳容器与所述保持件之间进行所述被处理基板 的移载,其中,

所述保持件的所述支撑板被分割为外侧支撑板和内侧支撑板,所 述外侧支撑板具有在进行所述被处理基板的移载时所述移载板能够沿 上下方向通过的切口部,所述内侧支撑板被配置在所述外侧支撑板的 内周缘部上,并且具有封堵所述切口部的封堵部。

2. 如权利要求1所述的立式热处理装置,其特征在于:

所述外侧支撑板的内径和所述内侧支撑板的外径形成为比所述被 处理基板的直径小。

3. 如权利要求1所述的立式热处理装置,其特征在于:

所述移载机构在通过所述内侧支撑板将所述被处理基板支撑在所 述移载板上的状态下进行所述被处理基板的移载。

4. 如权利要求1所述的立式热处理装置,其特征在于:

在所述移载板上表面设置有用于吸引空气的吸引孔,在所述内侧 支撑板上设置有通过由所述移载板的吸引孔吸引空气而将所述被处理 基板吸附在所述内侧支撑板上的吸附部。

5. 如权利要求1所述的立式热处理装置,其特征在于:

所述内侧支撑板具有载置在所述外侧支撑板的所述内周缘部上的 环状部以及与所述环状部形成为一体并且嵌入所述外侧支撑板的所述 切口部的封堵部。

6. 如权利要求1所述的立式热处理装置,其特征在于:

在所述外侧支撑板的所述内周缘部形成有收容所述内侧支撑板的 外周缘部的第一台阶部。

7. 如权利要求6所述的立式热处理装置,其特征在于:

在所述内侧支撑板的所述外周缘部形成有与所述外侧支撑板的所 述第一台阶部结合的第二台阶部。

8. 一种立式热处理装置,其特征在于,包括:

下部具有炉口的热处理炉;

密闭所述炉口的盖体;

设置在所述盖体上、通过环状支撑板沿上下方向以规定间隔保持 多个被处理基板的保持件;

使所述盖体升降从而将所述保持件搬入以及搬出所述热处理炉的 升降机构;

位于所述热处理炉的外部、以规定间隔收纳多个被处理基板的收 纳容器;和

移载机构,其具有以规定间隔配置、用于载置被处理基板的多个 移载板,并且在所述收纳容器与所述保持件之间进行所述被处理基板 的移载,其中,

所述保持件的所述支撑板被分割为支撑板主体和封堵板,所述支 撑板主体具有在进行所述被处理基板的移载时所述移载板能够沿上下 方向通过的切口部,所述封堵板用于封堵所述支撑板主体的所述切口 部。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810092365.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top