[发明专利]半导体封装基板及其制法有效
申请号: | 200810092649.5 | 申请日: | 2008-04-22 |
公开(公告)号: | CN101567355A | 公开(公告)日: | 2009-10-28 |
发明(设计)人: | 胡文宏 | 申请(专利权)人: | 全懋精密科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/498 | 分类号: | H01L23/498;H01L21/48 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 戈 泊 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 封装 及其 制法 | ||
技术领域
本发明涉及一种半导体封装基板及其制法,特别是涉及一种形成 有导电柱的半导体封装基板及其制法。
背景技术
在现行覆晶(Flip Chip)技术中,于集成电路(IC)的半导体芯片的主 动面上具有电极垫,而有机电路板亦具有相对应该电极垫的电性连接 垫,于该半导体芯片的电极垫与电路板的电性连接垫之间形成有焊锡 结构或其他导电粘着材料,该焊锡结构或导电粘着材料提供该半导体 芯片以及电路板之间的电性连接以及机械性的连接,相关制造工艺即 如图1A至图1F所示。
请参阅图1A,首先,提供一表面具有多个电性连接垫111及线路 112的电路板11。
请参阅图1B,接着于该形成有电性连接垫111的电路板11表面上 以印刷、旋涂或贴合形成一绝缘保护层12,并通过图案化工艺于该绝 缘保护层12中形成开孔120以露出部分该电性连接垫111的上表面。
请参阅图1C,在该绝缘保护层12及开孔120表面形成有一导电 层13,该导电层13主要作为后述电镀焊锡材料所需的电流传导路径。
请参阅图1D,接着于该电路板11上形成一阻层14,并经图案化 工艺,以于该阻层14中形成开孔140并露出该绝缘保护层开孔120。
请参阅图1E,再对该电路板11进行电镀(Electroplating)工艺,通 过该导电层13具导电特性,从而在进行电镀时作为电流传导路径,以 在该阻层开孔140及绝缘保护层开孔120中形成一导电柱15,且该导 电柱15顶缘突出于该绝缘保护层开孔120,并在阻层开孔140中形成 侧缘151。
请参阅图1F,移除该阻层14及其所覆盖的导电层13,使该导电 柱15于该绝缘保护层12表面形成凸出的侧缘151。
但是,上述现有制法中,该绝缘保护层开孔120的尺寸及该阻层 开孔140的尺寸皆十分微细,一般约50μm-60μm,故对位极为不易, 为使该阻层开孔140可与该绝缘保护层开孔120对位,通常将该阻层 开孔140的尺寸加大,藉以降低对位的困难度及提高工艺对位准确度, 而当绝缘保护层开孔120孔径更小时,受限于机台精度,阻层开孔140 的尺寸亦可能加大至绝缘保护层开孔120的两倍。
但是,加大该阻层开孔140的尺寸,导致该导电柱15的顶面产生 侧缘151,使各该导电柱15之间的间距必须加大,如此即无法于该导 电柱15顶面上形成细间距的预焊锡凸块。
且该导电柱15的侧缘151是凸出于该绝缘保护层12表面,容易 因温度变化及CTE(coefficient of thermal expansion)差异产生应力,并集 中于该导电柱15与侧缘151之间,而出现破坏的情况。
因此,如何提出一种半导体封装电路板及其制法,以形成细间距 的导电柱,实已成为目前业界亟待克服的难题。
发明内容
鉴于上述的缺陷,本发明的一目的是提供一种半导体封装基板及 其制法,以于基板本体的电性连接垫上形成细间距的导电柱。
本发明的又一目的是提供一种半导体封装基板及其制法,以避免 产生应力集中的情况。
本发明的再一目的是提供一种半导体封装基板及其制法,以限制 底部填充材料的流动位置。
本发明的另一目的是提供一种半导体封装基板及其制法,以降低 封装后的整体厚度。
为达到上述及其他目的,本发明提出一种半导体封装基板,包括: 基板本体,至少一表面具有多个电性连接垫及多条线路;多个导电柱, 分别完全包覆各该电性连接垫;以及绝缘保护层,形成于该基板本体 表面,且具有显露部以露出该导电柱。
该基板本体表面还包括有介电层,于该介电层表面具有该电性连 接垫及线路,且于该基板本体的介电层与电性连接垫,以及介电层与 线路之间具有一导电层。
本发明还提供一种半导体封装基板的制法,包括:提供至少一表 面具有多个电性连接垫及多条线路的基板本体;于各该电性连接垫表 面上形成有一导电柱,使该导电柱完全包覆该电性连接垫的顶面及侧 表面;以及于该基板本体表面形成一绝缘保护层,且该绝缘保护层表 面形成显露部,以通过该显露部露出该导电柱。
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