[发明专利]匀光薄膜及其制作方法

权利要求书

1.一种匀光薄膜，其特征在于包含：

一透明基材；以及

一粗糙层，其位于所述的透明基材的表面上，所述的粗糙层的表面具有凹纹。

2.根据权利要求1所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。

3.根据权利要求1所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的凹纹粗糙层的材质为热固型树脂。

4.根据权利要求1所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的凹纹粗糙层的凹纹是利用一表面具有凸纹的模板压印而成。

5.根据权利要求4所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的模板上的凸纹是利用粒子堆叠而成。

6.根据权利要求4所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的模板上的凸纹和粗糙层的凹纹的尺寸为微米或纳米级。

7.根据权利要求1所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的透明基材的另一表面上还设有另一粗糙层，所述的粗糙层的表面具有凸纹。

8.一种匀光薄膜的制作方法，其特征是包含有下列步骤：

提供一透明基材；

在所述的透明基材上形成一胶体层；

利用表面具有凸纹的模板对所述的胶体层进行滚压，以使所述的胶体层的表面形成凹纹；以及

对所述的胶体层进行固化，以形成一粗糙层。

9.根据权利要求8所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。

10根据权利要求8所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的胶体层的材质为热固型树脂。

11.根据权利要求8所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的模板上的凸纹是利用粒子堆叠而成。

12.根据权利要求8所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的模板上的凸纹的尺寸为微米或纳米级。

13.一种匀光薄膜，其特征是包含有：

一透明基材；

一凹纹粗糙层，其是位于所述的透明基材的上表面上；以及

一凸纹粗糙层，其是位于所述的透明基材的下表面上。

14.根据权利要求13所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的凹纹粗糙层是利用一表面具有凸纹的模板压印而成。

15.根据权利要求13所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的凸纹粗糙层是利用一表面具有凹纹的模板压印而成。

16.根据权利要求14所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的模板的凸纹是利用粒子堆叠而成。

17.根据权利要求13所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。

18.根据权利要求13所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的凹纹粗糙层的材质为热固型树脂。

19.根据权利要求15所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的模板上的凹纹的尺寸为微米或纳米级。

20.根据权利要求16所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的模板上的凸纹的尺寸为微米或纳米级。

21.根据权利要求13所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的凹纹粗糙层是匀光薄膜的入光面，所述的凸纹粗糙层是匀光薄膜的出光面。

22.一种匀光薄膜的制作方法，其特征是包含有下列步骤：

提供一透明基材；

在所述的透明基材上、下表面上分别形成第一胶体层、第二胶体层；

利用一表面具有凸纹的模板与一表面具有凹纹的模板分别对所述的第一胶体层与所述的第二胶体层进行滚压，以使所述的第一胶体层的表面形成凹纹，所述的第二胶体层的表面形成凸纹；以及

对所述的第一与所述的第二胶体层进行固化，以形成一凹纹粗糙层与一凸纹粗糙层。

23.根据权利要求22所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。

24.根据权利要求22所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的第一与第二胶体层的材质为热固型树脂。