[发明专利]匀光薄膜及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种匀光薄膜及其制作方法，特别是指一种无须使用散射粒子的匀光薄膜及其制作方法。

背景技术

匀光薄膜的功用是用来使通过的光线形成漫射来达到光线的均匀分布。现有的匀光薄膜结构是如同图1所示，主要是在透明基材10上涂布一添加有散射粒子12的树脂层，并可利用滚筒对树脂层进行滚压，以形成特定凸纹，接续再通过烘烤使树脂层挥发或者硬化，以形成一粗糙层14。光线在经过匀光薄膜时，会在粗糙层14内不断地在散射粒子与树脂间的两个折射率不同的介质中进行许多次折射、反射与散射，来产生光线均匀分布的效果。但是流质状态的树脂层物质与固态物质的散射粒子在混炼过程上，固态物质在流质状态中分布的单位密度控制极为不易，此外，涂布过程的取料、流质的流动状态、速度等都会影响散射粒子的分布状态，因此使得整个匀光薄膜的不可预测因素过多，造成整体厚度不均匀，与散射粒子分布不均，造成光线在粗糙层14中折射、反射与散射的匀光效果不易控制，因此形成量产上与使用上的瓶颈。

此外，现有的匀光薄膜的粗糙层都为凸纹，这样的虽可增加匀光薄膜表面的粗糙度，但却无法提高光线的聚光能力，而造成光线亮度上的损耗。

有鉴于此，本发明遂针对上述现有技术的缺失，提出一种匀光薄膜及其制作方法，以有效克服上述的所述的问题。

发明内容

本发明的一个主要目的在提供一种匀光薄膜及其制作方法，其是在匀光薄膜的粗糙层表面上形成规则或不规则排列的凹纹，如此达到聚光以及增加表面粗糙度的功效。

本发明的另一目的在提供一种匀光薄膜及其制作方法，其无须使用散射粒子。

本发明的再一目的在提供一种匀光薄膜及其制作方法，其利用模板压纹的方式来形成规则或不规则排列的凹纹/凸纹粗糙层，以达到可维持凹纹/凸纹粗糙度性能的再现性，而可进行量产。

本发明的又一目的在提供一种匀光薄膜及其制作方法，其是在匀光薄膜的入光、出光粗糙层表面上各形成规则或不规则排列的凹纹、凸纹，如此达到聚光以及增加表面粗糙度的功效。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案包括：

一种匀光薄膜，其特征包含：

一透明基材；以及

一粗糙层，其位于所述的透明基材的表面上，所述的粗糙层的表面具有凹纹。

其中：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。

其中：所述的凹纹粗糙层的材质为热固型树脂。

其中：所述的凹纹粗糙层的凹纹是利用一表面具有凸纹的模板压印而成。

其中：所述的模板上的凸纹是利用粒子堆叠而成。

其中：所述的模板上的凸纹和粗糙层的凹纹的尺寸为微米或纳米级。

其中：所述的透明基材的另一表面上还设有另一粗糙层，所述的粗糙层的表面具有凸纹。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案还包括：

一种匀光薄膜的制作方法，其特征是包含下列步骤：

提供一透明基材；

在所述的透明基材上形成胶体层；

利用一表面具有凸纹的模板对所述的胶体层进行滚压，以使所述的胶体层的表面形成凹纹；以及

对所述的胶体层进行固化，以形成粗糙层。

其中：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。

其中：所述的胶体层的材质为热固型树脂。

其中：所述的模板上的凸纹是利用粒子堆叠而成。

其中：所述的模板上的凸纹的尺寸为微米或纳米级。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案还包括：

一种匀光薄膜，其特征是包含有：

一透明基材；

一凹纹粗糙层，其是位于所述的透明基材的上表面上；以及

一凸纹粗糙层，其是位于所述的透明基材的下表面上。

其中：所述的凹纹粗糙层是利用一表面具有凸纹的模板压印而成。

其中：所述的凸纹粗糙层是利用一表面具有凹纹的模板压印而成。

其中：所述的模板的凸纹是利用粒子堆叠而成。

其中：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。

其中：所述的凹纹粗糙层的材质为热固型树脂。

其中：所述的模板上的凹纹的尺寸为微米或纳米级。

其中：所述的模板上的凸纹的尺寸为微米或纳米级。

其中：所述的凹纹粗糙层是匀光薄膜的入光面，所述的凸纹粗糙层是匀光薄膜的出光面。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案还包括：

一种匀光薄膜的制作方法，其特征是包含有下列步骤：

提供一透明基材；